Fe/Ti纳米多层薄膜制备及其调制结构研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-14页 |
| ·金属纳米多层薄膜 | 第9-12页 |
| ·纳米多层薄膜特性 | 第9页 |
| ·纳米多层薄膜调制结构及其稳定性 | 第9-11页 |
| ·纳米多层薄膜制备 | 第11-12页 |
| ·Fe/Ti纳米多层薄膜 | 第12-13页 |
| ·本文研究目的及研究内容 | 第13-14页 |
| 2 高真空磁控溅射装置及其工作特性 | 第14-24页 |
| ·双室高真空多功能磁控溅射装置 | 第14-19页 |
| ·磁控溅射靶工作特性 | 第19-23页 |
| ·真空系统指标 | 第23-24页 |
| 3 Fe/Ti纳米多层薄膜制备及分析方法 | 第24-32页 |
| ·Fe/Ti纳米多层薄膜制备 | 第24-27页 |
| ·工艺流程 | 第24-25页 |
| ·工艺参数 | 第25-27页 |
| ·分析方法 | 第27-32页 |
| ·Rutherford背散射 | 第27-28页 |
| ·X射线衍射 | 第28-30页 |
| ·透射电子显微镜 | 第30-31页 |
| ·原子力显微镜 | 第31-32页 |
| 4 Fe/Ti纳米多层薄膜调制结构 | 第32-53页 |
| ·调制周期 | 第32-36页 |
| ·相结构 | 第36-41页 |
| ·不同调制周期 | 第36-38页 |
| ·不同工作气压 | 第38页 |
| ·不同沉积功率 | 第38-41页 |
| ·微结构 | 第41-48页 |
| ·横截面形貌和选区电子衍射 | 第41-42页 |
| ·界面结构 | 第42-48页 |
| ·表面形貌 | 第48-49页 |
| ·讨论 | 第49-53页 |
| ·结构方面问题 | 第49-51页 |
| ·工艺方面问题 | 第51-53页 |
| 5 结论 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-59页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 大连理工大学学位论文版权使用授权书 | 第61页 |
