相变光盘记录介质材料的研究
摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-8页 |
第一章 绪论 | 第8-20页 |
·相变光盘的发展 | 第8-9页 |
·相变光盘记录原理 | 第9-11页 |
·相变光盘的构造 | 第11-12页 |
·相变光盘记录材料的要求 | 第12-14页 |
·研究进展 | 第14-17页 |
·本论文的目的和意义 | 第17-20页 |
·GaSb二元系 | 第17-18页 |
·材料的选择 | 第18-19页 |
·实验目的和意义 | 第19-20页 |
第二章 实验步骤与方法 | 第20-34页 |
·靶材的制备 | 第20-24页 |
·靶材的成分设计 | 第20-21页 |
·靶材的原料性能 | 第21-22页 |
·靶材的制备过程 | 第22-24页 |
·薄膜和非晶粉末的制备 | 第24-25页 |
·基板的准备 | 第24-25页 |
·蒸镀颗粒的准备 | 第25页 |
·蒸镀步骤及方法 | 第25页 |
·薄膜的热处理 | 第25页 |
·非晶粉末的制备 | 第25页 |
·材料的分析测试 | 第25-34页 |
·靶材绝对密度和相对密度的测定 | 第25-26页 |
·光学显微组织观察 | 第26页 |
·膜厚测量 | 第26-27页 |
·X-射线衍射分析 | 第27-29页 |
·差热分析 | 第29-33页 |
·光学性质测试 | 第33-34页 |
第三章 靶材性能研究 | 第34-42页 |
·靶材的相种类和结构比较 | 第34-38页 |
·靶材光学显微组织和基本性能 | 第38-40页 |
·差热分析 | 第40-41页 |
·结论 | 第41-42页 |
第四章 薄膜的性能分析 | 第42-68页 |
·膜厚测量的结果 | 第42页 |
·光学显微组织分析 | 第42-43页 |
·薄膜结构性能分析 | 第43-49页 |
·实验结果 | 第43-47页 |
·晶格参数 | 第47页 |
·晶粒大小 | 第47-48页 |
·结晶度 | 第48页 |
·结论 | 第48-49页 |
·热力学性能的研究 | 第49-57页 |
·实验结果及数据处理 | 第49-53页 |
·实验比较与分析 | 第53-57页 |
·结论 | 第57页 |
·光学性质 | 第57-68页 |
·实验结果与分析 | 第58-64页 |
·实验比较 | 第64-67页 |
·结论 | 第67-68页 |
结论 | 第68-69页 |
致谢 | 第69-70页 |
参考文献 | 第70-74页 |
攻读硕士学位期间发表的论文及科研成果 | 第74页 |