摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-7页 |
第1章 绪论 | 第7-16页 |
1.1 前言 | 第7-9页 |
1.2 AIN陶瓷的基本结构与性能 | 第9-11页 |
1.2.1 AIN陶瓷的基本结构 | 第9页 |
1.2.2 氮化铝陶瓷的优异性能与广阔的应用前景 | 第9-11页 |
1.3 AIN陶瓷的导热机理 | 第11-13页 |
1.3.1 陶瓷材料的导热机理 | 第11-12页 |
1.3.2 AIN陶瓷的导热机理 | 第12-13页 |
1.4 氮化铝陶瓷的烧结 | 第13-16页 |
1.4.1 AIN陶瓷烧结的发展过程 | 第14页 |
1.4.2 氮化铝陶瓷烧结的新进展 | 第14-16页 |
第2章 试验内容与方法 | 第16-22页 |
2.1 研究内容 | 第16-17页 |
2.1.1 主要研究内容 | 第16页 |
2.1.2 具体的研究工作 | 第16-17页 |
2.2 试验材料与设备 | 第17-19页 |
2.2.1 AIN原料 | 第17页 |
2.2.2 其他实验材料 | 第17页 |
2.2.3 空心阴极等离子烧结设备 | 第17-19页 |
2.3 试验方法 | 第19-22页 |
2.3.1 AIN陶瓷制备工艺流程 | 第19页 |
2.3.2 AIN陶瓷的测试手段 | 第19-22页 |
第3章 圆筒形空心阴极放电特性的研究 | 第22-31页 |
3.1 空心阴极等离子产生的机理 | 第22-25页 |
3.1.1 气体导电的基本原理 | 第22-23页 |
3.1.2 空心阴极效应及其特点 | 第23-25页 |
3.2 试验条件与方法 | 第25-26页 |
3.3 试验结果与分析 | 第26-30页 |
3.3.1 空心阴极的点燃条件 | 第26-28页 |
3.3.2 圆筒空心阴极放电特性研究 | 第28-30页 |
3.4 本章小结 | 第30-31页 |
第4章 AlN陶瓷的空心阴极等离子烧结 | 第31-58页 |
4.1 实验方案的确定 | 第31-35页 |
4.1.1 烧结助剂的选择 | 第31-34页 |
4.1.2 成型剂的选择与使用 | 第34-35页 |
4.1.3 烧结装置和工艺参数的确定 | 第35页 |
4.2 实验结果与分析 | 第35-51页 |
4.2.1 Y_2O_3-CaO烧结助剂的AlN陶瓷致密化过程的研究 | 第35-41页 |
4.2.2 加Y_2O_3-CaO-Li_2O烧结助剂的AlN陶瓷致密化过程的研究 | 第41-51页 |
4.3 AlN烧结体的相组成与微观结构 | 第51-56页 |
4.3.1 X-射线衍射 | 第51-53页 |
4.3.2 透射电镜观察 | 第53-55页 |
4.3.3 背散射电镜 | 第55-56页 |
4.3.4 扫描电子显微镜 | 第56页 |
4.4 本章小结 | 第56-58页 |
结论与展望 | 第58-60页 |
参考文献 | 第60-64页 |
攻读硕士学位期间所发表的学术论文 | 第64-65页 |
致谢 | 第65页 |