| 第一章 文献综述 | 第1-22页 |
| ·磁控溅射的发展概述 | 第8-9页 |
| ·氟碳膜的发展状况 | 第9-15页 |
| ·本课题要做的工作 | 第15-17页 |
| 参考文献 | 第17-22页 |
| 第二章 溅射成膜的实验设计与过程 | 第22-29页 |
| ·磁控溅射的工作原理 | 第22-23页 |
| ·选择射频电源的原因 | 第23-24页 |
| ·实验设备与装置 | 第24-25页 |
| ·实验方法和步骤 | 第25-26页 |
| ·实验设计 | 第26-28页 |
| 参考文献 | 第28-29页 |
| 第三章 氟碳膜的表面形貌及成膜机理的研究 | 第29-49页 |
| ·引言 | 第29-31页 |
| ·实验部分 | 第31-32页 |
| ·结果与讨论 | 第32-45页 |
| ·结论 | 第45-47页 |
| 参考文献 | 第47-49页 |
| 第四章 氟碳膜表面结构的研究 | 第49-64页 |
| ·引言 | 第49-50页 |
| ·实验部分 | 第50-51页 |
| ·结果与讨论 | 第51-60页 |
| ·结论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-64页 |
| 第五章 氟碳膜憎水性能的研究 | 第64-75页 |
| ·引言 | 第64-65页 |
| ·实验部分 | 第65-66页 |
| ·结果与讨论 | 第66-70页 |
| ·结论 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-75页 |
| 第六章 结论 | 第75-77页 |
| 致谢 | 第77页 |