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磁控高熔敷率MAG焊机理研究

第一章 绪    论第1-28页
 1、 课题研究背景第12-24页
  1.1 高熔敷率焊接方法的提出第12-14页
  1.2 高熔敷率焊接方法的主要代表工艺第14-19页
   1.2.1 多丝焊第14-15页
   1.2.2 填加金属粉末第15-16页
   1.2.3 电极表面冷却的手弧焊第16-17页
   1.2.4 T.I.M.E.焊接工艺第17-19页
  1.3 高熔敷率MAG焊接工艺的研究现状第19-24页
   1.3.1 国外研究情况第19-23页
   1.3.2 国内研究现状第23-24页
 2、 课题研究意义第24-26页
  2.1 焊接工艺效果方面第24-25页
  2.2 实际应用方面第25-26页
  2.3 理论应用方面第26页
 3、 本论文研究内容及创新之处第26-28页
  3.1 本论文研究的主要内容第26-27页
  3.2 本论文的创新之处第27-28页
第二章 焊丝熔化速度的影响因素第28-38页
 1、 引言第28页
 2、 焊丝熔化机理第28-31页
 3、 焊丝熔化速度的影响因素分析第31-34页
  3.1 焊丝熔化速度影响因素分析实验系统第31页
  3.2 实验条件和方法第31-33页
   3.2.1 实验条件的选取第31-32页
   3.2.2 实验方法第32-33页
  3.3 实验结果与分析第33-34页
   3.3.1 实验结果第33-34页
   3.3.2 实验结果分析第34页
 4、 影响因素对焊丝熔化速度影响规律的实验研究第34-37页
  4.1 干伸长第35页
  4.2 焊接电压第35-36页
  4.3 混合气体成分配比第36-37页
 5、 本章小结第37-38页
第三章 旋转射流过渡临界电流值的影响因素第38-48页
 1、 引言第38页
 2、 旋转射流过渡形态研究第38-41页
  2.1 熔滴过渡过程拍摄系统第38-39页
  2.2 实验条件第39-40页
  2.3 实验结果第40-41页
   2.3.1 T.I.M.E.气体保护的熔滴过渡特征第40页
   2.3.2 无氦混合气体保护的熔滴过渡特征第40-41页
 3、 旋转射流过渡临界电流值的影响因素及其影响规律第41-47页
  3.1 影响因素第41-42页
  3.2 各因素对旋转射流过渡临界电流值的影响规律第42-47页
   3.2.1 干伸长第42-43页
   3.2.2 CO_2成分配比第43-44页
   3.2.3 O_2成分配比第44-46页
   3.2.4 焊接电压影响规律第46-47页
 4、 本章小结第47-48页
第四章 磁控电弧稳态模型及其运动机理分析第48-64页
 1、 引言第48页
 2、 磁控电弧稳态模型第48-49页
 3、 磁控电弧稳态模型的讨论第49-55页
  3.1 洛仑兹力与安培力第50-52页
  3.2 洛仑兹力和安培力的作功问题第52-53页
  3.3 洛仑兹力负功部分的物理意义第53页
  3.4 电弧弧柱和金属导体的导电第53-55页
 4、 外加磁场作用下的电弧运动第55-58页
  4.1 烁亮区沿电弧截面圆周的旋转运动第55-58页
  4.2 烁亮区的径向运动与轴向运动第58页
   4.2.1 轴向运动第58页
   4.2.2 径向运动第58页
 5、 磁控电弧理动机理分析第58-62页
  5.1 外加磁场作用下电弧运动的稳态方程第58-59页
  5.2 外加磁场控制电弧运动机理分析第59-61页
   5.2.1 Ψ大于φ第60页
   5.2.2 Ψ小于φ第60-61页
  5.3、 磁控电弧运动机理中的最小能耗原理第61-62页
 6、 本章小结第62-64页
第五章 磁控电弧运动的动态过程分析第64-80页
 1、 引言第64页
 2、 磁控电弧运动的动态模型第64-66页
 3、 磁控电弧运动动态过程的数学描述第66-75页
  3.1 安培力第66-68页
  3.2 气动阻力第68-71页
  3.3 磁控电弧运动动态过程的数学描述第71-75页
   3.3.1 磁控电弧运动动态平衡方程式第71-72页
   3.3.2 迎风面的法向量第72-73页
   3.3.3 系数简化第73-75页
 4、 电弧运动准稳态及其影响因素分析第75-78页
  4.1 电弧运动准稳态第75-76页
  4.2 磁感应强度和焊接电流与准稳态第76-78页
  4.3 关于实际焊接情况的一些思考第78页
 5、 本章小结第78-80页
第六章 外加磁场分布的有限元计算及分析第80-98页
 1、 引言第80页
 2、 励磁线圈的选择及磁场计算的相关假设第80-81页
  2.1 励磁线圈的选择第80页
  2.2 磁场计算的相关假设第80-81页
 3、 磁场分布的计算方法第81-82页
  3.1 概况第81-82页
  3.2 有限元法商业软件第82页
 4、 外加磁场分布的有限元计算及分析第82-97页
  4.1 问题分析及几何模型建立第83-84页
  4.2 边界条件第84页
  4.3 磁场分布计算及分析第84-97页
   4.3.1 磁场分布的影响因素及其规律分析第84-89页
   4.3.2 磁场分布的调节方法第89-97页
 5、 本章小结第97-98页
第七章 无氦混合气体保护的磁控高熔敷率MAG焊工艺的实验验证第98-111页
 1、 引言第98页
 2、 磁控装置与高速摄像系统同步接口设计第98-99页
 3、 磁控前后的熔滴过渡过程第99-100页
  3.1 实验条件第99-100页
  3.2 实验结果分析第100页
 4、 外加磁场分布与磁控电弧的运动行为第100-103页
  4.1 实验条件第101页
  4.2 实验结果分析第101-103页
 5、 磁控电弧运动准稳态第103-108页
  5.1 实验条件第103-104页
  5.2 实验结果分析第104-108页
 6、 磁控高熔敷率MAG焊工艺的实现第108-109页
 7、 磁控高熔敷率MAG焊工艺特征第109-110页
 8、 本章小结第110-111页
结论第111-113页
博士期间发表的论文第113-114页
参考文献第114-119页
致 谢第119页

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