| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 第一章 文献综述 | 第11-27页 |
| ·钼的基本性质和用途 | 第11-12页 |
| ·钼电极的发展与使用现状 | 第12-14页 |
| ·防氧化涂层的研究概况 | 第14-20页 |
| ·用于热处理过程中玻璃基防氧化涂层的制备 | 第20-21页 |
| ·用于热处理过程中玻璃基防氧化涂层的性能 | 第21-24页 |
| ·涂层的设计原则 | 第24页 |
| ·选题的背景及意义 | 第24-25页 |
| ·本文的研究路线及主要内容 | 第25-27页 |
| 第二章 涂层组分的选择与实验制备 | 第27-37页 |
| ·引言 | 第27页 |
| ·基釉组分的确定 | 第27-30页 |
| ·基釉的制备过程 | 第30-33页 |
| ·涂层釉浆的实验制备 | 第33-35页 |
| ·涂层釉浆的涂敷 | 第35页 |
| ·涂层保护性能的表征 | 第35-37页 |
| 第三章 Cr_2O_3添加量对涂层防氧化效果的影响 | 第37-49页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·基釉的基本性质 | 第37-39页 |
| ·涂层涂敷厚度的探讨 | 第39-40页 |
| ·难熔物Cr_2O_3添加量的研究 | 第40-44页 |
| ·涂层保护功能的评价 | 第44-47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 第四章 预烧工艺对涂层防氧化效果的研究 | 第49-67页 |
| ·引言 | 第49-50页 |
| ·预烧工艺简介 | 第50-51页 |
| ·预烧工艺的选择 | 第51-56页 |
| ·预烧涂层保护功能的评价 | 第56-61页 |
| ·氧化失重的数学拟合 | 第61-65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 第五章 玻璃基防氧化涂层保护机理探讨 | 第67-77页 |
| ·引言 | 第67页 |
| ·涂层的保护机理概述 | 第67-71页 |
| ·涂层软化之前的保护机理 | 第71页 |
| ·涂层软化之后的保护机理 | 第71-75页 |
| ·本章小结 | 第75-77页 |
| 第六章 总结与展望 | 第77-79页 |
| ·总结 | 第77-78页 |
| ·展望 | 第78-79页 |
| 参考文献 | 第79-83页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文 | 第83-84页 |
| 致谢 | 第84页 |