| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 引言 | 第7-14页 |
| ·铁电体简介 | 第7-9页 |
| ·铁电材料的应用 | 第9页 |
| ·铁电存储器的研究现状 | 第9-11页 |
| ·反铁电薄膜的应用 | 第11-12页 |
| ·铁电薄膜的离子注入技术研究 | 第12-13页 |
| ·本论文研究的背景意义 | 第13-14页 |
| 第二章 铁电薄膜的制备工艺和分析手段 | 第14-25页 |
| ·铁电薄膜的主要制备工艺 | 第14-18页 |
| ·溅射法 | 第14-15页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第15页 |
| ·金属有机物化学气相沉积 | 第15页 |
| ·溶胶—凝胶法 | 第15-18页 |
| ·铁电薄膜的的分析手段 | 第18-25页 |
| ·铁电薄膜相结构XRD分析 | 第18-19页 |
| ·铁电薄膜表面扫描电镜分析 | 第19-20页 |
| ·铁电薄膜的电学测量分析 | 第20-25页 |
| 第三章 类反铁电薄膜的制备 | 第25-38页 |
| ·引言 | 第25页 |
| ·PZT铁电薄膜的制备 | 第25-34页 |
| ·先体的配制过程 | 第25-26页 |
| ·基片清洗工艺 | 第26-28页 |
| ·薄膜制备工艺 | 第28-29页 |
| ·离子注入工艺 | 第29-30页 |
| ·上下电极的制备工艺 | 第30-34页 |
| ·离子注入后铁电薄膜的表征 | 第34-36页 |
| ·离子注入前后PZT薄膜的相结构对比 | 第35页 |
| ·离子注入前后PZT薄膜的铁电性能对比 | 第35-36页 |
| ·本章小结 | 第36-38页 |
| 第四章 掺杂原子对铁电薄膜的电畴翻转的影响机理研究 | 第38-52页 |
| ·引言 | 第38页 |
| ·掺杂原子对铁电薄膜电畴翻转的影响分析 | 第38-49页 |
| ·PZT薄膜内氢离子浓度分布模拟 | 第39-40页 |
| ·不同氢离子浓度分布对PZT薄膜滞回曲线的影响 | 第40-43页 |
| ·掺杂氢离子对PZT薄膜电畴快速极化特性的影响 | 第43-44页 |
| ·掺杂氢离子对PZT薄膜电畴漏电特性的影响 | 第44-45页 |
| ·高温掺杂氢离子对PZT薄膜电畴滞回曲线特性的影响 | 第45-49页 |
| ·离子注入后类反铁电薄膜的应用举例 | 第49-50页 |
| ·类反铁电薄膜的电荷存储测量 | 第49-50页 |
| ·类反铁电薄膜的可变介电常数测量 | 第50页 |
| ·本章小结 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |