| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 第一章 文献综述 | 第7-26页 |
| ·汞的污染与危害 | 第7-10页 |
| ·汞的污染 | 第7页 |
| ·汞对人类的危害 | 第7-8页 |
| ·汞的甲基化 | 第8-10页 |
| ·汞的形态分析 | 第10-19页 |
| ·汞的形态分析分离富集技术 | 第10-14页 |
| ·汞的形态分析技术 | 第14-19页 |
| ·基于硅胶的痕量金属元素固相萃取 | 第19-24页 |
| ·硅胶性质 | 第19-21页 |
| ·硅胶改性 | 第21页 |
| ·化学键合反应的类型 | 第21-22页 |
| ·化学键合硅胶的性质 | 第22页 |
| ·化学键合硅胶的特点 | 第22-23页 |
| ·化学键合硅胶在痕量金属分离富集中的应用 | 第23-24页 |
| ·选题目的及意义 | 第24-26页 |
| 第二章 试验部分 | 第26-35页 |
| ·原料、药品、仪器与设备 | 第26-27页 |
| ·试剂与原料 | 第26页 |
| ·仪器与设备 | 第26-27页 |
| ·化学键合硅胶的制备 | 第27-28页 |
| ·硅胶的活化 | 第27页 |
| ·键合硅胶的制备 | 第27页 |
| ·键合硅胶的稳定性测试 | 第27-28页 |
| ·化学键合硅胶对汞形态的静态吸附研究 | 第28-31页 |
| ·可见分光光度法显色条件选择 | 第28-29页 |
| ·静态吸附影响因素研究 | 第29-31页 |
| ·化学键合硅胶对汞形态的动态分离富集研究 | 第31-33页 |
| ·填充微柱的准备 | 第31页 |
| ·流动注射-冷蒸气发生原子荧光在线联用仪器参数的选择 | 第31-32页 |
| ·动态分离富集的影响因素研究 | 第32-33页 |
| ·基于化学键合硅胶的流动注射-原子荧光在线联用技术在汞形态分析中的应用 | 第33-35页 |
| ·标准曲线的绘制 | 第33页 |
| ·干扰离子对富集的影响 | 第33页 |
| ·样品测定 | 第33-35页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第35-58页 |
| ·化学键合硅胶的制备 | 第35-38页 |
| ·键合硅胶的合成方法和原理 | 第35-36页 |
| ·键合硅胶的红外光谱 | 第36-37页 |
| ·键合硅胶的稳定性测试 | 第37-38页 |
| ·化学键合硅胶对汞形态的静态吸附研究 | 第38-44页 |
| ·可见分光光度法显色条件选择 | 第38-42页 |
| ·化学键合硅胶对汞形态的静态吸附 | 第42-44页 |
| ·流动注射-冷蒸气发生原子荧光在线联用仪器参数的选择 | 第44-51页 |
| ·流动注射分析在线富集方法 | 第44-45页 |
| ·填充微柱的制备 | 第45页 |
| ·流动注射流路设计 | 第45-48页 |
| ·原子荧光仪器参数的选择 | 第48-51页 |
| ·基于化学键合硅胶的动态分离富集的影响因素研究 | 第51-55页 |
| ·pH值及缓冲体系对富集分离的影响 | 第51-52页 |
| ·洗脱剂的选择 | 第52-53页 |
| ·洗脱剂盐酸流速的影响 | 第53-54页 |
| ·样品流速对富集的影响 | 第54页 |
| ·富集时间的影响 | 第54-55页 |
| ·基于化学键合硅胶的流动注射-原子荧光在线联用技术在汞形态分析中的应用 | 第55-58页 |
| ·检出限、线性关系和精密度等分析性能 | 第55页 |
| ·体系抗干扰能力研究 | 第55-56页 |
| ·样品测定 | 第56-58页 |
| 第四章 结论 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
