中文摘要 | 第1-7页 |
英文摘要 | 第7-13页 |
第一章 前言 | 第13-23页 |
·孤独谱系障碍 | 第13-14页 |
·情绪面孔加工 | 第14-17页 |
·孤独谱系障碍情绪面孔加工的研究现状 | 第17-21页 |
·研究目标 | 第21页 |
·研究内容 | 第21页 |
·预期结果 | 第21-23页 |
第二章 研究对象及方法 | 第23-31页 |
·研究对象 | 第23页 |
·实验方法 | 第23-29页 |
·统计学分析 | 第29-31页 |
第三章 结果 | 第31-36页 |
·一般资料 | 第31页 |
·情绪面孔加工相关脑结构皮层厚度 | 第31-32页 |
·情绪面孔加工相关脑结构灰质体积 | 第32-35页 |
·ASD患儿情绪面孔加工相关脑结构异常与社会情绪功能的相关分析 | 第35-36页 |
第四章 讨论 | 第36-41页 |
第五章 结论 | 第41-42页 |
致谢 | 第42-43页 |
参考文献 | 第43-49页 |
综述 | 第49-69页 |
参考文献 | 第60-69页 |