电弧离子镀深管内壁硬膜沉积研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-15页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·电弧离子镀 | 第9-10页 |
| ·脉冲偏压电弧离子镀 | 第10-12页 |
| ·硬质薄膜的发展 | 第12-13页 |
| ·本论文工作的内容和意义 | 第13-15页 |
| 2 实验设备与实验方法 | 第15-20页 |
| ·实验设备 | 第15-16页 |
| ·实验方法 | 第16-17页 |
| ·实验材料 | 第16页 |
| ·试样的镀前预处理 | 第16页 |
| ·实验思路 | 第16-17页 |
| ·薄膜的结构及性能分析方法 | 第17-20页 |
| ·薄膜物相结构的分析 | 第17页 |
| ·薄膜表面形貌的分析 | 第17页 |
| ·薄膜厚度的测量 | 第17-18页 |
| ·硬度检测方法 | 第18-20页 |
| 3 等离子体磁场内引的预备研究 | 第20-26页 |
| ·常规永磁体磁场的应用研究 | 第20-22页 |
| ·实验工艺 | 第20-21页 |
| ·实验结果与分析 | 第21-22页 |
| ·线圈电磁场替代永磁体的尝试 | 第22-23页 |
| ·离子轰击预热实验 | 第23-24页 |
| ·高温永磁体磁场的应用研究 | 第24-26页 |
| 4 等离子体磁场内引的工艺优化研究 | 第26-45页 |
| ·300mm通管内壁沉积TiN的优化实验 | 第26-34页 |
| ·薄膜沉积实验工艺与过程 | 第26-27页 |
| ·通管内壁薄膜厚度测量与分析 | 第27-29页 |
| ·通管内壁薄膜表面形貌分析 | 第29-30页 |
| ·通管内壁薄膜的相结构分析 | 第30-31页 |
| ·通管不同深度薄膜的纳米硬度分析 | 第31-32页 |
| ·通管不同深度薄膜的显微硬度分析 | 第32-34页 |
| ·200mm盲管内壁沉积TiN的优化实验 | 第34-42页 |
| ·薄膜沉积实验工艺与过程 | 第34-35页 |
| ·盲管内壁薄膜厚度测量与分析 | 第35-36页 |
| ·盲管内壁薄膜表面形貌分析 | 第36-38页 |
| ·盲管内壁薄膜的相结构分析 | 第38-39页 |
| ·盲管不同深度薄膜的纳米硬度分析 | 第39-41页 |
| ·盲管不同深度薄膜的显微硬度分析 | 第41-42页 |
| ·几个重要问题的讨论 | 第42-45页 |
| ·深管内壁TiN薄膜沉积速率 | 第42-43页 |
| ·硬度的影响因素 | 第43页 |
| ·衍深度的标准 | 第43-45页 |
| 5 深管镀膜技术的应用研究 | 第45-51页 |
| ·深管镀膜技术在铜管加工模具上的应用 | 第45-47页 |
| ·管材加工模具中的剥皮模具 | 第45页 |
| ·沉积硬膜处理后剥皮模具的使用寿命 | 第45-46页 |
| ·沉积硬膜处理后剥皮模具的成型效果 | 第46-47页 |
| ·深管镀膜技术在燃料电池双极板上的应用 | 第47-50页 |
| ·燃料电池双极板 | 第47-48页 |
| ·沉积薄膜后双极板的接触电阻 | 第48-49页 |
| ·沉积薄膜后双极板的耐蚀性能 | 第49-50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 结论 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-55页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
