| 中文摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-14页 |
| ·引言 | 第7-8页 |
| ·有关集成光学的研究 | 第8-9页 |
| ·集成光学理论 | 第8页 |
| ·集成光学器件 | 第8-9页 |
| ·集成光学的主要应用领域 | 第9页 |
| ·光波导器件 | 第9-11页 |
| ·光波导在集成光学中的应用 | 第9-10页 |
| ·光波导的分类 | 第10-11页 |
| ·光波导材料-铌酸锂晶体 | 第11-12页 |
| ·本论文的工作和意义 | 第12-14页 |
| 第二章 介质光波导基础理论 | 第14-25页 |
| ·平面电磁波-折射与反射理论以及波动方程 | 第14-19页 |
| ·snell 定律 | 第14-15页 |
| ·Frensnel 定律 | 第15-17页 |
| ·全反射临界角全反射时的相移 | 第17-18页 |
| ·波动方程 | 第18-19页 |
| ·平板光波导射线光学理论 | 第19-24页 |
| ·均匀平板波导的导模 | 第21-22页 |
| ·归一化参量 | 第22-24页 |
| ·条形介质波导 | 第24-25页 |
| 第三章 近化学计量比铌酸锂晶体 | 第25-33页 |
| ·LiNbO_3 晶体组分 | 第25-29页 |
| ·近化学计量比LiNbO_3 晶体 | 第29-30页 |
| ·获得近化学计量比LiNbO_3 晶体的方法 | 第30-33页 |
| ·气相输运平衡技术 | 第31-32页 |
| ·坩埚制作 | 第32页 |
| ·VTE 技术在处理铌酸锂晶体中的重要功能 | 第32-33页 |
| 第四章 钛扩散近化学计量比铌酸锂光波导的制作 | 第33-37页 |
| ·制备NS Ti:LiNbO_3 光波导的几种方法 | 第33页 |
| ·NS Ti:LiNbO_3 光波导的制备流程 | 第33-36页 |
| ·光刻 | 第33-35页 |
| ·溅射 | 第35页 |
| ·剥离 | 第35-36页 |
| ·高温扩散 | 第36页 |
| ·VTE 处理 | 第36页 |
| ·端面抛光 | 第36页 |
| ·本文中NS Ti:NbO_3 光波导的制备 | 第36-37页 |
| 第五章 钛扩散近化学计量比铌酸锂光波导的表征 | 第37-48页 |
| ·NS Ti:LiNbO_3 光波导表面形貌表征 | 第37-38页 |
| ·采集近场模式分析波导损耗 | 第38-40页 |
| ·近场模式采集系统原理 | 第38-39页 |
| ·近场模式采集过程 | 第39-40页 |
| ·实验结果 | 第40页 |
| ·模场图样分析 | 第40-44页 |
| ·MATLAB 软件对模场图样的分析 | 第40-41页 |
| ·用Origin 对光强分布拟合 | 第41-42页 |
| ·拟合曲线 | 第42-43页 |
| ·损耗分析 | 第43-44页 |
| ·SIMS 分析波导区域Ti 的分布 | 第44-45页 |
| ·Li 的组分分析 | 第45-48页 |
| 第六章 总结与展望 | 第48-49页 |
| ·总结 | 第48页 |
| ·展望 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-51页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52页 |