| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-21页 |
| ·纳米材料和碳纳米管研究概况 | 第8-10页 |
| ·纳米材料 | 第8-10页 |
| ·碳纳米管 | 第10页 |
| ·显示技术与场发射显示器 | 第10-12页 |
| ·阴极射线管显示器(Cathode Ray Tubes-CRTs) | 第11页 |
| ·等离子体显示器(Plasma Display Panel-PDP) | 第11-12页 |
| ·液晶显示器(Liquid Crystal Display-LCD) | 第12页 |
| ·场发射显示器(Field Emission Display-FED) | 第12-16页 |
| ·场发射显示器原理 | 第13页 |
| ·场发射显示器研究进展 | 第13-16页 |
| ·研究内容 | 第16-17页 |
| 参考文献 | 第17-21页 |
| 第二章 理论基础 | 第21-33页 |
| ·电子发射的理论基础 | 第21-25页 |
| ·电子发射的基本形式 | 第21-25页 |
| ·碳纳米管场致电子发射理论 | 第25-30页 |
| ·金属的F-N理论 | 第26-27页 |
| ·半导体场发射理论 | 第27-28页 |
| ·纳米材料场发射理论 | 第28-30页 |
| 参考文献 | 第30-33页 |
| 第三章 多壁碳纳米管薄膜的制备及其场发射特性研究 | 第33-57页 |
| ·碳纳米管的制备方法 | 第33-35页 |
| ·石墨电弧法(Arc-discharge) | 第33-34页 |
| ·激光蒸发法(Pulsed Laser Deposition,PLD) | 第34页 |
| ·太阳能法(Solar Still) | 第34页 |
| ·聚合物热解法(Pyrolytic Polymer) | 第34-35页 |
| ·化学气相沉积法(Chemical Vapor Deposition,CVD) | 第35页 |
| ·碳纳米管的制备 | 第35-38页 |
| ·化学试剂及仪器规格 | 第35-36页 |
| ·化学气相沉积法制备(CVD)法制备碳纳米管 | 第36-38页 |
| ·丝网印刷结合CVD法原位生长碳纳米管薄膜 | 第38-40页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第40-41页 |
| ·碳纳米管薄膜的场发射研究 | 第41-43页 |
| ·不同基底的碳纳米管薄膜场发射特性研究 | 第41-43页 |
| ·碳纳米管阴极制备工艺研究(基于丝网印刷) | 第43-52页 |
| ·丝网印刷法制备二电极碳纳米管场发射阴极 | 第43-48页 |
| ·丝网印刷法制备三电极碳纳米管场发射阴极 | 第48-50页 |
| ·印刷涂覆法制备二电极碳纳米管场发射阴极 | 第50-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 第四章 改性MWCNTs薄膜的场发射性能研究 | 第57-79页 |
| ·激光烧蚀对碳纳米管薄膜场发射性能的影响 | 第57-64页 |
| ·实验方案 | 第58-59页 |
| ·实验结果及讨论 | 第59-64页 |
| ·小结 | 第64页 |
| ·金属掺杂对MWCNTs薄膜场发射的影响 | 第64-74页 |
| ·化学方法制备的Ti-MWCNTs薄膜的场发射性能 | 第66-68页 |
| ·磁控溅射超薄Ti膜对碳管薄膜场发射的影响 | 第68-74页 |
| ·本章小结 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-79页 |
| 总结与建议 | 第79-81页 |
| 攻读硕士学位期间取得的科研成果 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82页 |
