分幅变像管空间分辨性能与电子束莫尔条纹研究
摘要 | 第3-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第10-28页 |
1.1 高速摄影技术 | 第10页 |
1.2 惯性约束核聚变诊断技术 | 第10-11页 |
1.3 分幅相机发展概述 | 第11-19页 |
1.3.1 栅极快门式分幅相机 | 第12-13页 |
1.3.2 扫描式分幅相机 | 第13-14页 |
1.3.3 近贴式阴极选通分幅相机 | 第14-15页 |
1.3.4 行波选通分幅相机 | 第15-18页 |
1.3.5 时间展宽分幅相机 | 第18-19页 |
1.4 莫尔条纹简介 | 第19-25页 |
1.4.1 光学莫尔条纹 | 第19-23页 |
1.4.2 电子束莫尔条纹 | 第23-25页 |
1.4.3 变像管中的电子束莫尔条纹 | 第25页 |
1.5 本文研究内容的提出 | 第25-26页 |
1.6 本文的研究内容和创新点 | 第26-28页 |
第二章 理论分析 | 第28-54页 |
2.1 时间展宽分幅变像管原理简介 | 第28-29页 |
2.2 电子输运模拟 | 第29-39页 |
2.2.1 电场的计算方法 | 第29-34页 |
2.2.2 磁场的计算方法 | 第34-39页 |
2.3 磁透镜成像系统与像差理论 | 第39-49页 |
2.3.1 短磁透镜成像原理 | 第39-41页 |
2.3.2 短磁透镜的像差 | 第41-46页 |
2.3.3 短磁透镜像差校正 | 第46-47页 |
2.3.4 长磁透镜成像原理 | 第47-49页 |
2.4 莫尔条纹理论 | 第49-53页 |
2.5 本章小结 | 第53-54页 |
第三章 分幅变像管模拟结果与分析 | 第54-89页 |
3.1 单透镜结构分幅变像管模拟结果分析 | 第54-64页 |
3.1.1 离轴磁场分析 | 第56-58页 |
3.1.2 像面电子分布及像差分析 | 第58-62页 |
3.1.3 离轴距离与空间分辨率 | 第62-64页 |
3.2 组合透镜结构分幅变像管模拟结果分析 | 第64-73页 |
3.2.1 像差与磁场分析 | 第66-71页 |
3.2.2 离轴距离与空间分辨率 | 第71-73页 |
3.3 长磁透镜 | 第73-82页 |
3.3.1 弱磁场作用下的长磁透镜成像 | 第73-76页 |
3.3.2 强磁场作用下的长磁透镜成像 | 第76-78页 |
3.3.3 电子图像的缩放 | 第78-82页 |
3.4 电子束莫尔条纹模拟 | 第82-87页 |
3.4.1 电子束莫尔条纹倾角与条纹间隔 | 第82-85页 |
3.4.2 不同栅网透过率下的莫尔条纹 | 第85-87页 |
3.5 本章小结 | 第87-89页 |
第四章 实验数据及分析 | 第89-117页 |
4.1 实验平台的建立 | 第89-94页 |
4.1.1 分幅变像管 | 第89-90页 |
4.1.2 光电阴极 | 第90页 |
4.1.3 阳极栅网 | 第90-91页 |
4.1.4 磁聚焦透镜 | 第91页 |
4.1.5 MCP变像管 | 第91页 |
4.1.6 CCD相机 | 第91-92页 |
4.1.7 光源系统 | 第92页 |
4.1.8 电控系统 | 第92-93页 |
4.1.9 真空系统 | 第93-94页 |
4.2 空间分辨率实验数据及分析 | 第94-105页 |
4.2.1 单透镜结构相机成像结果分析 | 第94-97页 |
4.2.2 双透镜结构相机成像结果分析 | 第97-100页 |
4.2.3 三透镜结构相机成像结果分析 | 第100-102页 |
4.2.4 成像质量对比 | 第102-105页 |
4.3 电子束莫尔条纹实验 | 第105-115页 |
4.3.1 电子束莫尔条纹实验平台建立 | 第106-109页 |
4.3.2 电子束莫尔条纹调制度分析 | 第109-113页 |
4.3.3 电子束莫尔条纹倾角与条纹间隔宽度 | 第113-115页 |
4.4 本章小结 | 第115-117页 |
第五章 总结与展望 | 第117-119页 |
5.1 总结 | 第117-118页 |
5.2 展望 | 第118-119页 |
参考文献 | 第119-126页 |
致谢 | 第126-127页 |
攻读博士学位期间的研究成果 | 第127页 |