| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 铁电畴壁及其性质 | 第9-11页 |
| 1.1.1 畴壁的基本概念与类型 | 第9-10页 |
| 1.1.2 铁电畴壁的性质 | 第10-11页 |
| 1.2 铁电畴壁在存储领域的研究现状 | 第11-15页 |
| 1.2.1 铁电材料在存储领域的研究进展 | 第11-15页 |
| 1.2.2 铁电畴壁存储存在的科学问题 | 第15页 |
| 1.3 铁电畴壁的导电性及调控原理 | 第15-19页 |
| 1.3.1 铁电畴壁的导电性 | 第15-17页 |
| 1.3.2 铁电畴壁导电性的调控 | 第17-19页 |
| 1.4 本论文的选题依据和主要内容 | 第19-21页 |
| 第2章 失配应变对铁电薄膜中畴壁结构和导电性的影响 | 第21-33页 |
| 2.1 铁电薄膜中畴壁导电性研究的相场模型的建立 | 第21-25页 |
| 2.1.1 经典相场模型 | 第21-23页 |
| 2.1.2 畴壁导电性研究模型 | 第23-24页 |
| 2.1.3 铁电薄膜中畴壁导电性研究的相场模型 | 第24-25页 |
| 2.2 失配应变对铁电薄膜中畴壁结构的影响 | 第25-28页 |
| 2.3 失配应变对铁电薄膜中畴壁导电性的影响 | 第28-32页 |
| 2.4 本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 电场对铁电薄膜中畴壁结构和导电性的影响 | 第33-46页 |
| 3.1 纵向电场对铁电薄膜中畴壁结构和导电性的影响 | 第33-36页 |
| 3.1.1 纵向电场对铁电薄膜中畴壁结构的影响 | 第34页 |
| 3.1.2 纵向电场对铁电薄膜中畴壁导电性的影响 | 第34-36页 |
| 3.2 双向电场对铁电薄膜中畴壁结构和导电性的影响 | 第36-41页 |
| 3.2.1 双向电场对铁电薄膜中畴壁结构的影响 | 第37-38页 |
| 3.2.2 双向电场对铁电薄膜中畴壁导电性的影响 | 第38-41页 |
| 3.3 界面电场对铁电薄膜中畴壁结构和导电性的影响 | 第41-44页 |
| 3.3.1 界面电场对铁电薄膜中畴壁结构的影响 | 第42页 |
| 3.3.2 界面电场对铁电薄膜中畴壁导电性的影响 | 第42-44页 |
| 3.4 本章小结 | 第44-46页 |
| 第4章 空间电荷对铁电薄膜中畴壁结构和导电性的影响 | 第46-58页 |
| 4.1 空间电荷的引入 | 第46-48页 |
| 4.2 均匀分布空间电荷对铁电薄膜中畴壁结构和导电性的影响 | 第48-51页 |
| 4.2.1 均匀分布空间电荷对铁电薄膜中畴壁结构的影响 | 第48-50页 |
| 4.2.2 均匀分布空间电荷对铁电薄膜中畴壁导电性的影响 | 第50-51页 |
| 4.3 非均匀分布空间电荷对铁电薄膜中畴壁结构和导电性的影响 | 第51-56页 |
| 4.3.1 非均匀分布空间电荷对铁电薄膜中畴壁结构的影响 | 第52-54页 |
| 4.3.2 非均匀分布空间电荷对铁电薄膜中畴壁导电性的影响 | 第54-56页 |
| 4.4 本章小结 | 第56-58页 |
| 第5章 总结与展望 | 第58-60页 |
| 5.1 论文总结 | 第58-59页 |
| 5.2 研究展望 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 个人简历 | 第67页 |
| 攻读硕士学位期间所取得的成果 | 第67页 |
