| 中文摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-25页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 光电催化分解水 | 第11-15页 |
| 1.2.1 光电催化分解水的进程研究 | 第11-12页 |
| 1.2.2 光电催化分解水的基本原理 | 第12-13页 |
| 1.2.3 光电催化分解水半导体电极的选择 | 第13-14页 |
| 1.2.4 光电催化分解水的界面动力学分析 | 第14-15页 |
| 1.3 硅纳米线阵列 | 第15-19页 |
| 1.3.1 硅纳米线阵列的基本性质 | 第15页 |
| 1.3.2 硅纳米线阵列的制备方法 | 第15-18页 |
| 1.3.3 硅纳米线阵列在光电化学分解水方面的应用 | 第18-19页 |
| 1.4 氧化铁纳米棒阵列 | 第19-23页 |
| 1.4.1 氧化铁的基本性质 | 第19-20页 |
| 1.4.2 氧化铁纳米棒阵列的制备方法 | 第20-21页 |
| 1.4.3 氧化铁纳米棒阵列在光电催化技术中的应用 | 第21-23页 |
| 1.5 本课题研究的目的、意义和内容 | 第23-25页 |
| 1.5.1 研究目的与意义 | 第23-24页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第24-25页 |
| 第2章 电化学还原法制备rGO/SiNWs阵列复合电极及其光电催化性能的研究 | 第25-43页 |
| 2.1 引言 | 第25-26页 |
| 2.2 实验部分 | 第26-29页 |
| 2.2.1 SiNWs阵列的制备 | 第26-27页 |
| 2.2.2 RGO/SiNWs阵列复合电极的制备 | 第27-28页 |
| 2.2.3 材料表征 | 第28-29页 |
| 2.2.4 光电催化性能测试 | 第29页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第29-42页 |
| 2.3.1 形貌与相结构 | 第29-32页 |
| 2.3.2 UV-vis测试分析 | 第32-33页 |
| 2.3.3 Raman测试分析 | 第33-34页 |
| 2.3.4 XPS测试分析 | 第34-35页 |
| 2.3.5 光电化学性能和机理分析 | 第35-42页 |
| 2.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 第3章 NiCoLDH修饰α-Fe_2O_3NRs阵列复合电极的制备及其光电催化性能的研究 | 第43-60页 |
| 3.1 引言 | 第43-44页 |
| 3.2 实验部分 | 第44-45页 |
| 3.2.1 α-Fe_2O_3NRs阵列的制备 | 第44页 |
| 3.2.2 NiCo/Fe_2O_3NRs阵列复合电极的制备 | 第44-45页 |
| 3.2.3 材料表征 | 第45页 |
| 3.2.4 光电催化性能测试 | 第45页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第45-59页 |
| 3.3.1 形貌与相结构 | 第45-48页 |
| 3.3.2 UV-vis测试分析 | 第48页 |
| 3.3.3 XPS测试分析 | 第48-50页 |
| 3.3.4 光电化学性能和机理分析 | 第50-59页 |
| 3.4 本章小结 | 第59-60页 |
| 第4章 结论及展望 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-73页 |
| 附录：硕士期间已发表和待发表的研究成果 | 第73页 |
