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离子溅射新型类金刚石Ta-C涂层的性能及应用研究

摘要第4-5页
abstract第5-6页
第1章 绪论第9-16页
    1.1 课题研究的背景第9页
    1.2 类金刚石涂层的制备方法和机理第9-13页
        1.2.1 物理气相沉积法第10-12页
        1.2.2 化学气相沉积法第12-13页
    1.3 Ta-C涂层国内外研究现状第13-14页
        1.3.1 Ta-C涂层国内研究现状第13-14页
    1.4 本课题研究意义和研究内容第14-16页
第2章 Ta-C涂层的制备工艺与性能表征第16-40页
    2.1 引言第16页
    2.2 Ta-C涂层基体选择及制备方案第16-17页
    2.3 硬质合金基体的预处理工艺第17-19页
    2.4 Ta-C涂层沉积工艺第19-22页
        2.4.1 氩离子刻蚀方案第20-21页
        2.4.2 石墨靶不同溅射时间制备Ta-C涂层方案第21-22页
    2.5 涂层的性能表征第22-28页
        2.5.1 微观结构分析第22页
        2.5.2 厚度第22-24页
        2.5.3 硬度第24页
        2.5.4 结合强度第24-28页
        2.5.5 拉曼光谱第28页
    2.6 实验结果及讨论第28-39页
        2.6.1 氩离子刻蚀对Ta-C涂层性能的影响第28-30页
        2.6.2 石墨靶不同溅射时对Ta-C涂层的影响第30-39页
    2.7 本章小结第39-40页
第3章 Ta-C涂层的摩擦学性能研究第40-48页
    3.1 引言第40页
    3.2 Ta-C涂层的磨损机理研究第40-42页
    3.3 Ta-C涂层的摩擦过程研究第42-46页
    3.4 本章小结第46-48页
第4章 Ta-C涂层的应用第48-59页
    4.1 引言第48页
    4.2 Ta-C涂层刀具制备第48-49页
    4.3 实验材料第49页
    4.4 加工方式第49-50页
    4.5 表面粗糙度测试第50-51页
    4.6 Ta-C涂层切削实验结果及讨论第51-53页
        4.6.1 刀具寿命第51-52页
        4.6.2 工件表面粗糙度第52-53页
    4.7 与氢化类金刚石涂层刀具对比切削第53-58页
        4.7.1 涂层制备第53-54页
        4.7.2 实验结果及讨论第54-58页
    4.8 本章小结第58-59页
第5章 结论与研究展望第59-61页
    5.1 结论第59-60页
    5.2 研究展望第60-61页
参考文献第61-66页
致谢第66-67页
攻读学位期间所参加的科研项目和发表的学术论文第67-68页

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