| 提要 | 第1-7页 |
| 第1章 绪论 | 第7-19页 |
| ·ZnO 的基本性质 | 第8-10页 |
| ·ZnO 材料的研究进展及存在的科学问题 | 第10-14页 |
| ·ZnO 材料中的本征缺陷 | 第10-11页 |
| ·ZnO p 型掺杂的研究进展 | 第11-14页 |
| ·MgZnO 和CdZnO 能带工程 | 第14页 |
| ·ZnOM (M=S, Se, Te 等)能带工程 | 第14-17页 |
| ·ZnO 和ZnO 基合金p 型制备中存在的问题 | 第17-19页 |
| 第2章 薄膜的制备技术及表征手段 | 第19-28页 |
| ·磁控溅射技术 | 第19-20页 |
| ·真空和气氛退火设备 | 第20-21页 |
| ·ZnO 及ZnO 基合金薄膜的表征手段 | 第21-28页 |
| ·X-射线衍射(XRD) | 第21-22页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第22-23页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)和X 射线能量谱仪(EDS) | 第23页 |
| ·透射-吸收光谱 | 第23-24页 |
| ·霍尔效应(Hall effect)测量 | 第24-25页 |
| ·X 射线光电子能谱(XPS) | 第25-26页 |
| ·光致发光光谱(PL) | 第26-28页 |
| 第3章 Zn-O-Se 非晶合金薄膜的制备和表征 | 第28-37页 |
| ·样品制备 | 第29页 |
| ·Zn-O-Se 合金的结构表征 | 第29-31页 |
| ·非晶态Zn-O-Se 合金薄膜的成份 | 第31-32页 |
| ·非晶态Zn-O-Se 合金的XPS 图谱 | 第32-33页 |
| ·非晶态Zn-O-Se 合金的光学性质 | 第33-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第4章 ZnO_(1-x)S_x合金薄膜的制备和表征 | 第37-46页 |
| ·样品制备 | 第37页 |
| ·ZnO_(1-x)S_x 合金薄膜的晶体结构 | 第37-41页 |
| ·ZnO_(1-x)S_x 合金薄膜的光学性质 | 第41-44页 |
| ·ZnO_(1-x)S_x 合金薄膜的电学性质 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第5章 Cu 掺杂的p 型ZnO_(1-x)S_x合金薄膜的制备和机制的研究 | 第46-60页 |
| ·样品制备 | 第46页 |
| ·Cu 掺杂p 型ZnO_(1-x)S_x 合金薄膜的结构表征 | 第46-48页 |
| ·Cu 在ZnO 和ZnO_(1-x)S_x 合金中固溶度和光学带隙的差别 | 第48-50页 |
| ·p 型Cu 掺杂w-Zn_(1-y)Cu_yO_(1-x)S_x 合金的电学性质 | 第50-53页 |
| ·Cu 和S 共掺的w-Zn_(1-y)Cu_yO_(1-x)S_x 合金薄膜的p 型来源 | 第53-57页 |
| ·Cu 和S 共掺的p 型w-Zn_(1-y)Cu_yO_(1-x)S_x 合金的变温Hall测量 | 第53-55页 |
| ·Cu 和S 共掺的w-Zn_(1-y)Cu_yO_(1-x)S_x 合金薄膜的SEM 形貌 | 第55-57页 |
| ·Cu 和S 共掺的w-Zn_(1-y)Cu_yO_(1-x)S_x 合金的XPS 分析 | 第57-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第6章 结论与展望 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-70页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 中文摘要 | 第72-75页 |
| Abstract | 第75-78页 |
