| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 四环素类抗生素及其污染现状 | 第10-11页 |
| 1.2 四环素类抗生素废水的处理方法 | 第11-14页 |
| 1.2.1 传统处理方法 | 第11-12页 |
| 1.2.2 高级氧化技术 | 第12-14页 |
| 1.3 g-C_3N_4光催化氧化技术的现状 | 第14-17页 |
| 1.3.1 g-C_3N_4的结构 | 第15-16页 |
| 1.3.2 g-C_3N_4的制备 | 第16页 |
| 1.3.3 g-C_3N_4光催化降解机理 | 第16-17页 |
| 1.4 g-C_3N_4光催化剂的改性 | 第17-20页 |
| 1.4.1 带隙工程 | 第17-18页 |
| 1.4.2 半导体复合 | 第18-19页 |
| 1.4.3 多壁碳纳米管（MWCNT）负载 | 第19页 |
| 1.4.4 半导体表面贵金属沉积 | 第19-20页 |
| 1.5 本研究的主要研究内容 | 第20-22页 |
| 1.5.1 研究意义 | 第20页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第20-22页 |
| 第二章 g-C_3N_4/CeO_2复合光催化剂的制备及光催化性能 | 第22-33页 |
| 2.1 引言 | 第22页 |
| 2.2 实验部分 | 第22-25页 |
| 2.2.1 实验材料与设备 | 第22-23页 |
| 2.2.2 g-C_3N_4/CeO_2异质结的制备 | 第23-24页 |
| 2.2.3 样品表征 | 第24页 |
| 2.2.4 光催化活性实验 | 第24-25页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第25-32页 |
| 2.3.1 晶相与形貌分析 | 第25-26页 |
| 2.3.2 红外光谱分析 | 第26-27页 |
| 2.3.3 固体紫外漫反射分析 | 第27-28页 |
| 2.3.4 光催化性能测试 | 第28-29页 |
| 2.3.5 光催化剂可重复利用性和稳定性研究 | 第29-30页 |
| 2.3.6 g-C_3N_4/CeO_2复合光催化剂电荷转移理论 | 第30-32页 |
| 2.4 本章小结 | 第32-33页 |
| 第三章 Ag/g-C_3N_4/CeO_2复合光催化剂的制备及光催化性能 | 第33-43页 |
| 3.1 引言 | 第33-34页 |
| 3.2 实验部分 | 第34-36页 |
| 3.2.1 实验材料与设备 | 第34页 |
| 3.2.2 Ag/g-C_3N_4/CeO_2异质结的制备 | 第34-35页 |
| 3.2.3 样品表征 | 第35页 |
| 3.2.4 光催化活性实验 | 第35-36页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第36-42页 |
| 3.3.1 晶相与形貌分析 | 第36-37页 |
| 3.3.2 红外光谱分析 | 第37-38页 |
| 3.3.3 固体紫外漫反射分析 | 第38页 |
| 3.3.4 Ag/g-C_3N_4/CeO_2复合光催化剂形成机理 | 第38-39页 |
| 3.3.5 光催化性能测试 | 第39-41页 |
| 3.3.6 光催化剂可重复利用性和稳定性研究 | 第41页 |
| 3.3.7 Ag/g-C_3N_4/CeO_2复合光催化剂电荷转移理论 | 第41-42页 |
| 3.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 Ag/g-C_3N_4/ZnO复合光催化剂的制备及光催化性能 | 第43-51页 |
| 4.1 引言 | 第43页 |
| 4.2 实验部分 | 第43-46页 |
| 4.2.1 实验材料与设备 | 第43-44页 |
| 4.2.2 Ag/g-C_3N_4/ZnO的制备 | 第44-45页 |
| 4.2.3 样品表征 | 第45页 |
| 4.2.4 光催化活性实验 | 第45-46页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第46-50页 |
| 4.3.1 形貌分析 | 第46页 |
| 4.3.2 晶相分析 | 第46-47页 |
| 4.3.3 红外光谱分析 | 第47-48页 |
| 4.3.4 固体紫外漫反射分析 | 第48页 |
| 4.3.5 光催化活性实验 | 第48-49页 |
| 4.3.6 Ag/g-C_3N_4/ZnO光催化剂光降解机理图 | 第49-50页 |
| 4.4 本章小结 | 第50-51页 |
| 结论和展望 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-62页 |
| 研究成果 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
