摘要 | 第4-6页 |
abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第10-26页 |
1.1 引言 | 第10-11页 |
1.2 半导体光催化反应的原理 | 第11页 |
1.3 半导体光催化剂的改性 | 第11-15页 |
1.3.1 半导体的复合 | 第12-14页 |
1.3.2 离子掺杂 | 第14-15页 |
1.3.3 贵金属的沉积 | 第15页 |
1.4 石墨烯材料的研究 | 第15-20页 |
1.4.1 石墨烯的功能化研究 | 第16-19页 |
1.4.2 石墨烯的制备方法 | 第19-20页 |
1.5 电气石 | 第20-24页 |
1.5.1 电气石的结构 | 第20-21页 |
1.5.2 电气石的基本性质 | 第21-22页 |
1.5.3 电气石的应用 | 第22-23页 |
1.5.4 石墨烯/电气石/二氧化钛复合材料的研究进展 | 第23-24页 |
1.6 本课题的研究意义及研究内容 | 第24-26页 |
第二章 实验材料、仪器及实验方法 | 第26-32页 |
2.1 实验材料及设备 | 第26-28页 |
2.1.1 实验材料 | 第26页 |
2.1.2 实验设备 | 第26-28页 |
2.2 实验方法 | 第28-31页 |
2.2.1 二氧化钛的制备 | 第28页 |
2.2.2 纳米电气石的制备 | 第28页 |
2.2.3 石墨烯/电气石及石墨烯/电气石/二氧化钛复合物的制备 | 第28-31页 |
2.3 复合材料的光催化性能测试 | 第31-32页 |
第三章 三元复合材料的制备与表征 | 第32-42页 |
3.1 氧化石墨及PDDA修饰的氧化石墨的制备与表征 | 第32页 |
3.1.1 氧化石墨的制备 | 第32页 |
3.1.2 PDDA修饰的氧化石墨 | 第32页 |
3.2 材料的表征 | 第32-34页 |
3.2.1 红外光谱的测试 | 第32-34页 |
3.3 石墨烯/电气石的制备与表征 | 第34-37页 |
3.3.1 电气石的制备 | 第34-35页 |
3.3.2 石墨烯/电气石复合物的制备与表征 | 第35-37页 |
3.4 三元复合材料的合成与表征 | 第37-41页 |
3.4.1 石墨烯/电气石/二氧化钛复合材料的制备与表征 | 第37-40页 |
3.4.2 PDDA-石墨烯/电气石/二氧化钛复合材料的制备与表征 | 第40-41页 |
3.5 本章小结 | 第41-42页 |
第四章 三元复合材料光催化性能的表征与分析 | 第42-50页 |
4.1 石墨烯基和PDDA-石墨烯基复合材料光催化性能比较 | 第42-43页 |
4.2 石墨烯/电气石/二氧化钛复合材料的光催化性能 | 第43-47页 |
4.3 复合材料的降解机理 | 第47-49页 |
4.4 本章小结 | 第49-50页 |
第五章 全文结论 | 第50-52页 |
5.1 全文结论 | 第50-51页 |
5.2 工作创新点 | 第51页 |
5.3 进一步的研究意义 | 第51-52页 |
参考文献 | 第52-59页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第59-60页 |
致谢 | 第60-61页 |