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用于掩模板表面形貌测量的外差干涉显微系统的研究

摘 要第4-5页
ABSTRACT第5页
第一章 综述第10-24页
    1.1 课题研究背景第10-11页
    1.2 表面形貌测量技术概述第11-20页
        1.2.1 共焦显微技术第12-14页
        1.2.2 干涉显微技术第14-19页
        1.2.3 双频干涉共焦显微镜第19-20页
    1.3 论文工作目标和内容第20-23页
    1.4 本章小结第23-24页
第二章 共光路外差干涉共焦显微测量系统的研究第24-55页
    2.1 微电子掩模板测量系统构成第24-29页
        2.1.1 总体方案第24-27页
        2.1.2 测量系统光路结构第27-29页
    2.2 双折射透镜的设计第29-35页
        2.2.1 用于双折射透镜初始结构设计的伪色差原理第31页
        2.2.2 双折射透镜组的设计第31-33页
        2.2.3 双折射透镜组设计结果第33-34页
        2.2.4 双折射透镜象差分析第34-35页
    2.3 外差干涉测相中的关键技术第35-48页
        2.3.1 外差光源简介第36-38页
        2.3.2 低频差双频横向塞曼激光器稳频系统第38-40页
        2.3.3 外差干涉测相理论分析第40-42页
        2.3.4 相位测量原理和相位测量卡的设计第42-48页
            2.3.4.1 双向差动数字鉴相原理第43-46页
            2.3.4.2 相位卡电路设计第46-48页
    2.4 共焦光强测量中的关键技术第48-54页
        2.4.1 共焦系统的轴向响应特性分析第48-51页
        2.4.2 锁相放大测量光强的基本原理第51-54页
    2.5 本章小结第54-55页
第三章 用于掩模板线宽测量的偏振外差干涉共焦显微系统第55-69页
    3.1 系统构成和基本原理第55-62页
        3.1.1 总体方案第55-57页
        3.1.2 光学系统设计第57-59页
        3.1.3 测量原理分析第59-62页
    3.2 理论分析和数学仿真第62-68页
        3.2.1 耦合波理论概述第62-66页
        3.2.2 数学仿真第66-68页
    3.3 本章小结第68-69页
第四章 实验结果第69-94页
    4.1 低频差横向塞曼He-Ne激光器性能实验第69-70页
    4.2 FPGA相位卡性能实验第70-73页
    4.3 共光路外差干涉共焦显微测量系统标定与测量结果第73-89页
        4.3.1 共焦系统轴向响应曲线测定第73-77页
        4.3.2 外差干涉系统稳定性实验第77-78页
        4.3.3 标准样板实测结果第78-89页
    4.4 偏振外差干涉共焦显微测量系统线宽测量结果第89-93页
        4.4.1 稳定性实验第89-90页
        4.4.2 微电子掩膜板线宽实测结果第90-93页
    4.5 本章小结第93-94页
第五章 误差分析第94-105页
    5.1 共光路外差干涉共焦显微系统误差分析第94-103页
        5.1.1 光路原理误差分析第94-96页
        5.1.2 系统非线性误差分析第96-102页
        5.1.3 环境引入的误差分析第102页
        5.1.4 其它环节引入的误差分析第102页
        5.1.5 误差合成第102-103页
    5.2 偏振外差干涉共焦显微系统的误差分析第103-104页
    5.3 本章小结第104-105页
第六章 工作总结和展望第105-107页
    6.1 工作总结第105-106页
        6.1.1 主要创新点第105页
        6.1.2 完成的其他主要工作第105-106页
    6.2 测量系统的改进与展望第106-107页
参考文献第107-114页
致 谢第114-115页
个人简历、在学期间的研究成果及发表的论文第115-117页

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