摘 要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5页 |
第一章 综述 | 第10-24页 |
1.1 课题研究背景 | 第10-11页 |
1.2 表面形貌测量技术概述 | 第11-20页 |
1.2.1 共焦显微技术 | 第12-14页 |
1.2.2 干涉显微技术 | 第14-19页 |
1.2.3 双频干涉共焦显微镜 | 第19-20页 |
1.3 论文工作目标和内容 | 第20-23页 |
1.4 本章小结 | 第23-24页 |
第二章 共光路外差干涉共焦显微测量系统的研究 | 第24-55页 |
2.1 微电子掩模板测量系统构成 | 第24-29页 |
2.1.1 总体方案 | 第24-27页 |
2.1.2 测量系统光路结构 | 第27-29页 |
2.2 双折射透镜的设计 | 第29-35页 |
2.2.1 用于双折射透镜初始结构设计的伪色差原理 | 第31页 |
2.2.2 双折射透镜组的设计 | 第31-33页 |
2.2.3 双折射透镜组设计结果 | 第33-34页 |
2.2.4 双折射透镜象差分析 | 第34-35页 |
2.3 外差干涉测相中的关键技术 | 第35-48页 |
2.3.1 外差光源简介 | 第36-38页 |
2.3.2 低频差双频横向塞曼激光器稳频系统 | 第38-40页 |
2.3.3 外差干涉测相理论分析 | 第40-42页 |
2.3.4 相位测量原理和相位测量卡的设计 | 第42-48页 |
2.3.4.1 双向差动数字鉴相原理 | 第43-46页 |
2.3.4.2 相位卡电路设计 | 第46-48页 |
2.4 共焦光强测量中的关键技术 | 第48-54页 |
2.4.1 共焦系统的轴向响应特性分析 | 第48-51页 |
2.4.2 锁相放大测量光强的基本原理 | 第51-54页 |
2.5 本章小结 | 第54-55页 |
第三章 用于掩模板线宽测量的偏振外差干涉共焦显微系统 | 第55-69页 |
3.1 系统构成和基本原理 | 第55-62页 |
3.1.1 总体方案 | 第55-57页 |
3.1.2 光学系统设计 | 第57-59页 |
3.1.3 测量原理分析 | 第59-62页 |
3.2 理论分析和数学仿真 | 第62-68页 |
3.2.1 耦合波理论概述 | 第62-66页 |
3.2.2 数学仿真 | 第66-68页 |
3.3 本章小结 | 第68-69页 |
第四章 实验结果 | 第69-94页 |
4.1 低频差横向塞曼He-Ne激光器性能实验 | 第69-70页 |
4.2 FPGA相位卡性能实验 | 第70-73页 |
4.3 共光路外差干涉共焦显微测量系统标定与测量结果 | 第73-89页 |
4.3.1 共焦系统轴向响应曲线测定 | 第73-77页 |
4.3.2 外差干涉系统稳定性实验 | 第77-78页 |
4.3.3 标准样板实测结果 | 第78-89页 |
4.4 偏振外差干涉共焦显微测量系统线宽测量结果 | 第89-93页 |
4.4.1 稳定性实验 | 第89-90页 |
4.4.2 微电子掩膜板线宽实测结果 | 第90-93页 |
4.5 本章小结 | 第93-94页 |
第五章 误差分析 | 第94-105页 |
5.1 共光路外差干涉共焦显微系统误差分析 | 第94-103页 |
5.1.1 光路原理误差分析 | 第94-96页 |
5.1.2 系统非线性误差分析 | 第96-102页 |
5.1.3 环境引入的误差分析 | 第102页 |
5.1.4 其它环节引入的误差分析 | 第102页 |
5.1.5 误差合成 | 第102-103页 |
5.2 偏振外差干涉共焦显微系统的误差分析 | 第103-104页 |
5.3 本章小结 | 第104-105页 |
第六章 工作总结和展望 | 第105-107页 |
6.1 工作总结 | 第105-106页 |
6.1.1 主要创新点 | 第105页 |
6.1.2 完成的其他主要工作 | 第105-106页 |
6.2 测量系统的改进与展望 | 第106-107页 |
参考文献 | 第107-114页 |
致 谢 | 第114-115页 |
个人简历、在学期间的研究成果及发表的论文 | 第115-117页 |