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单喷嘴粉煤气流床气化炉的稳态与动态模拟

摘要第5-6页
Abstract第6页
第1章 前言第9-11页
    1.1 研究背景第9-10页
    1.2 研究内容第10-11页
第2章 文献综述第11-24页
    2.1 粉煤气化技术第11-12页
        2.1.1 气化过程简述第11页
        2.1.2 技术特点及主要影响因素第11-12页
    2.2 三区模型理论基础第12-16页
        2.2.1 Gibbs自由能最小化第12-13页
        2.2.2 气固非均相反应第13-14页
        2.2.3 流体力学基础-冷态流场第14-15页
        2.2.4 热质传递第15页
        2.2.5 停留时间第15-16页
        2.2.6 颗粒尺寸的影响第16页
    2.3 气化过程模拟研究进展第16-20页
    2.4 稳态模拟工具-Aspen Plus第20-21页
        2.4.1 组分类型第20页
        2.4.2 单元操作模块第20页
        2.4.3 粉煤气化炉平衡模型第20-21页
    2.5 动态模拟工具-Aspen Dynamics第21-24页
        2.5.1 Aspen Dynamics简介第22页
        2.5.2 动态模拟技术的应用第22-24页
第3章 单喷嘴粉煤气化炉的分区模拟第24-45页
    3.1 气化炉的分区数学模型第25-31页
        3.1.1 化学反应模型第25-27页
        3.1.2 气化炉分区第27-31页
    3.2 气化炉的分区模拟第31-39页
        3.2.1 计算工况第31-32页
        3.2.2 Aspen Plus稳态模型第32-33页
        3.2.3 单元设置第33页
        3.2.4 未反应芯缩核模型用户子程序第33-36页
        3.2.5 模拟结果第36-39页
    3.3 结构参数对气化结果的影响第39-43页
        3.3.1 回流比的影响第39-41页
        3.3.2 短路比的影响第41-42页
        3.3.3 初时刻粒径的影响第42-43页
    3.4 本章小结第43-45页
第4章 基于单喷嘴粉煤气化炉分区模型的动态模拟第45-65页
    4.1 稳态模型基础第45-47页
        4.1.1 对稳态模型的要求第45-47页
        4.1.2 稳态模型向动态模型转化第47页
    4.2 控制系统的建立第47-50页
        4.2.1 控制器的配置第47-48页
        4.2.2 PID控制器第48-49页
        4.2.3 其它控制器第49-50页
    4.3 系统动态响应特性第50-64页
        4.3.1 以进口燃料的流量变化为扰动第50-57页
        4.3.2 以进口燃料的温度变化为扰动第57-63页
        4.3.3 控制方案的探讨第63-64页
    4.4 本章小结第64-65页
第5章 结论第65-66页
参考文献第66-70页
致谢第70-71页
附录第71-73页

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