| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第13-23页 |
| 1.1 引言 | 第13-14页 |
| 1.2 薄膜材料的基本性质 | 第14-19页 |
| 1.2.1 铁电性能 | 第14-16页 |
| 1.2.2 铁磁性能 | 第16-17页 |
| 1.2.3 介电性能 | 第17-19页 |
| 1.3 铁酸铋薄膜材料发展现状 | 第19-21页 |
| 1.4 本论文的研究内容 | 第21-23页 |
| 第二章 样品的制备技术与测试分析方法 | 第23-31页 |
| 2.1 射频(RF)磁控溅射技术 | 第23-24页 |
| 2.1.1 RF溅射原理 | 第23-24页 |
| 2.1.2 常见问题分析 | 第24页 |
| 2.2 溶胶-凝胶法 | 第24-28页 |
| 2.2.1 匀胶工作原理 | 第24-26页 |
| 2.2.2 常见问题分析 | 第26-28页 |
| 2.3 样品的测试分析方法 | 第28-31页 |
| 第三章 A位Nd掺杂的BFO薄膜的制备及其性能研究 | 第31-55页 |
| 3.1 前言 | 第31页 |
| 3.2 样品的制备与性能的测试 | 第31-36页 |
| 3.2.1 BNFO陶瓷靶材的制备 | 第31-32页 |
| 3.2.2 基片的清洗 | 第32-33页 |
| 3.2.3 溶胶凝胶的配制 | 第33-35页 |
| 3.2.4 薄膜的制备 | 第35-36页 |
| 3.3 不同退火温度下(Bi_(0.9)Nd_(0.1))FeO_3薄膜的结构分析与性能研究 | 第36-45页 |
| 3.3.1 晶相分析 | 第36-37页 |
| 3.3.2 形貌表征 | 第37-39页 |
| 3.3.3 铁电分析 | 第39-40页 |
| 3.3.4 漏电流分析 | 第40-45页 |
| 3.4 不同气氛退火(Bi_(0.9)Nd_(0.1))FeO_3薄膜的结构分析与性能研究 | 第45-49页 |
| 3.4.1 晶相分析 | 第45-46页 |
| 3.4.2 铁电分析 | 第46-47页 |
| 3.4.3 漏电流分析 | 第47-48页 |
| 3.4.4 磁性能分析 | 第48-49页 |
| 3.5 不同衬底上生长(Bi_(0.9)Nd_(0.1))FeO_3薄膜的结构分析与性能研究 | 第49-54页 |
| 3.5.1 晶相分析 | 第49-50页 |
| 3.5.2 铁电分析 | 第50-51页 |
| 3.5.3 漏电流分析 | 第51-53页 |
| 3.5.4 磁性能分析 | 第53-54页 |
| 3.6 小结 | 第54-55页 |
| 第四章 B位Cr掺杂对BiFeO_3性能的影响 | 第55-59页 |
| 4.1 前言 | 第55页 |
| 4.2 样品的制备与性能测试 | 第55-58页 |
| 4.4 小结 | 第58-59页 |
| 第五章 A位共掺杂对BiFeO_3性能的影响比较 | 第59-62页 |
| 5.1 前言 | 第59页 |
| 5.2 样品制备与性能测试 | 第59页 |
| 5.3 结果和讨论 | 第59-61页 |
| 5.4 小结 | 第61-62页 |
| 结论 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
