喷流转晶法KDP晶体生长系统的流动与传质数值模拟研究
| 中文摘要 | 第3-5页 |
| 英文摘要 | 第5-6页 |
| 主要符号表 | 第10-12页 |
| 1 绪论 | 第12-23页 |
| 1.1 引言 | 第12页 |
| 1.2 KDP晶体简介 | 第12-18页 |
| 1.2.1 KDP晶体结构 | 第13-14页 |
| 1.2.2 KDP晶体的应用 | 第14-15页 |
| 1.2.3 KDP晶体生长方法 | 第15-18页 |
| 1.3 晶体生长研究现状 | 第18-22页 |
| 1.3.1 晶体生长实验研究 | 第19-20页 |
| 1.3.2 晶体生长数值研究 | 第20-22页 |
| 1.4 课题的提出和研究内容 | 第22-23页 |
| 2 溶液法KDP晶体生长的CFD模型 | 第23-41页 |
| 2.1 引言 | 第23页 |
| 2.2 晶体生长的输运过程 | 第23-25页 |
| 2.3 计算模型原理 | 第25-27页 |
| 2.4 溶液法生长KDP晶体实例分析 | 第27-30页 |
| 2.4.1 物理模型 | 第27页 |
| 2.4.2 数学模型 | 第27-29页 |
| 2.4.3 计算网格及数值方法 | 第29-30页 |
| 2.5 计算结果与分析 | 第30-36页 |
| 2.5.1 晶体生长源项的影响 | 第30-32页 |
| 2.5.2 湍流模型的选择 | 第32-36页 |
| 2.6 层流与湍流传质比较 | 第36-39页 |
| 2.7 本章小结 | 第39-41页 |
| 3 喷流转晶法KDP晶体生长系统的流动与传质计算 | 第41-55页 |
| 3.1 引言 | 第41页 |
| 3.2 物理模型 | 第41-42页 |
| 3.3 数学模型 | 第42-43页 |
| 3.4 计算网格及数值方法 | 第43-44页 |
| 3.5 计算结果与分析 | 第44-54页 |
| 3.5.1 传统法与新方法综合比较 | 第44-48页 |
| 3.5.2 喷流速度对晶体锥面过饱和度的影响 | 第48-51页 |
| 3.5.3 晶体尺寸对晶体锥面过饱和度的影响 | 第51-52页 |
| 3.5.4 转速对晶体锥面过饱和度的影响 | 第52-54页 |
| 3.6 本章小节 | 第54-55页 |
| 4 结论与展望 | 第55-57页 |
| 4.1 论文主要结论 | 第55页 |
| 4.2 论文创新点 | 第55-56页 |
| 4.3 后续研究工作展望 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-63页 |
| 附录 | 第63-65页 |
| A. 晶体生长源项C语言程序 | 第63-65页 |
| B. 晶体旋转Profile文件 | 第65页 |
| C. 作者在攻读硕士期间参加的科研项目 | 第65页 |
