二氧化钒薄膜的磁控溅射生长及其性质研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 VO_2的结构与性质 | 第10-13页 |
| 1.3 二氧化钒薄膜的应用 | 第13-14页 |
| 1.3.1 智能窗 | 第13页 |
| 1.3.2 光存储材料 | 第13页 |
| 1.3.3 红外脉冲激光保护膜 | 第13页 |
| 1.3.4 红外热敏电阻材料 | 第13-14页 |
| 1.3.5 其他应用 | 第14页 |
| 1.4 本论文主要研究内容 | 第14-15页 |
| 参考文献 | 第15-20页 |
| 第2章 二氧化钒薄膜的制备和表征 | 第20-30页 |
| 2.1 薄膜的制备方法 | 第20-22页 |
| 2.2 磁控溅射制备二氧化钒薄膜 | 第22-25页 |
| 2.2.1 氧化钒薄膜的制备方法 | 第22-23页 |
| 2.2.2 溅射的基本原理 | 第23-24页 |
| 2.2.3 实验采用的磁控溅射淀积系统及参数 | 第24-25页 |
| 2.3 实验过程 | 第25-26页 |
| 2.3.1 衬底切割与清洗 | 第25页 |
| 2.3.2 样品制备 | 第25-26页 |
| 2.4 二氧化钒薄膜的表征手段 | 第26-28页 |
| 2.4.1 XRD表征 | 第26-27页 |
| 2.4.2 SEM表征 | 第27页 |
| 2.4.3 AFM表征 | 第27-28页 |
| 2.4.4 薄膜电学特性测试 | 第28页 |
| 2.4.5 薄膜光学性能测试 | 第28页 |
| 2.5 本章小结 | 第28-29页 |
| 参考文献 | 第29-30页 |
| 第3章 生长参数对二氧化钒薄膜的影响 | 第30-54页 |
| 3.1 直流和射频磁控溅射对氧化钒薄膜的影响 | 第30-36页 |
| 3.1.1 直流磁控溅射制备氧化钒薄膜 | 第30-34页 |
| 3.1.2 射频磁控溅射制备氧化钒薄膜 | 第34-36页 |
| 3.2 氧气流量对氧化钒薄膜的影响 | 第36-41页 |
| 3.2.1 实验过程 | 第36页 |
| 3.2.2 实验结果与分析 | 第36-41页 |
| 3.3 溅射功率对氧化钒薄膜的影响 | 第41-48页 |
| 3.3.1 实验过程 | 第42页 |
| 3.3.2 实验结果与分析 | 第42-48页 |
| 3.4 本章小结 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-54页 |
| 第4章 二氧化钒薄膜在微测辐射热计中的应用 | 第54-62页 |
| 4.1 微测辐射热计 | 第54-56页 |
| 4.1.1 工作原理 | 第54-55页 |
| 4.1.2 TCR与微测辐射热计的关系 | 第55-56页 |
| 4.2 氧化钒薄膜在微测辐射热计中的应用 | 第56-58页 |
| 4.2.1 通过控制氧气流量制备的氧化钒薄膜 | 第56-57页 |
| 4.2.2 通过控制溅射功率制备的氧化钒薄膜 | 第57-58页 |
| 4.3 本章小结 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
| 第5章 总结与展望 | 第62-64页 |
| 5.1 总结 | 第62-63页 |
| 5.2 展望 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-66页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第66-67页 |
