弱氧化辅助的碳纳米管阵列的制备工艺研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第12-29页 |
| 1.1 研究的背景和意义 | 第12-14页 |
| 1.2 壁虎脚掌的精细结构和黏附机理 | 第14-15页 |
| 1.3 壁虎脚掌的黏附特点 | 第15-17页 |
| 1.4 仿壁虎干黏附阵列的研究概况 | 第17-27页 |
| 1.4.1 聚合物黏附阵列研究 | 第17-21页 |
| 1.4.2 碳纳米管阵列黏附阵列研究 | 第21-27页 |
| 1.5 本文主要目标和内容 | 第27-29页 |
| 第二章 常规CVD法制备碳纳米管阵列 | 第29-50页 |
| 2.1 引言 | 第29-30页 |
| 2.2 化学气相沉积法的原理（CVD） | 第30页 |
| 2.3 催化剂的作用机理 | 第30-32页 |
| 2.4 实验准备 | 第32-34页 |
| 2.4.1 实验材料及设备 | 第32-33页 |
| 2.4.2 催化剂制备 | 第33-34页 |
| 2.5 常压CVD工艺制备 | 第34-43页 |
| 2.5.1 常压工艺参数设计 | 第34-35页 |
| 2.5.2 黏附性能测试 | 第35页 |
| 2.5.3 结果与讨论 | 第35-43页 |
| 2.6 低压CVD生长制备 | 第43-48页 |
| 2.6.1 低压化学气相沉积工艺设计 | 第43-45页 |
| 2.6.2 实验结果与讨论 | 第45-48页 |
| 2.7 本章小结 | 第48-50页 |
| 第三章 水辅助CVD法制备碳纳米管阵列 | 第50-56页 |
| 3.1 引言 | 第50页 |
| 3.2 鼓泡工艺机理 | 第50-52页 |
| 3.3 实验 | 第52-53页 |
| 3.3.1 实验材料及设备 | 第52页 |
| 3.3.2 测试设备及方法 | 第52页 |
| 3.3.3 催化剂及工艺参数的选择 | 第52-53页 |
| 3.4 实验结果与讨论 | 第53-55页 |
| 3.4.1 不同水蒸气量的影响 | 第53-54页 |
| 3.4.2 水辅助对碳纳米管形貌的影响 | 第54-55页 |
| 3.5 本章小结 | 第55-56页 |
| 第四章 黏附力测试 | 第56-63页 |
| 4.1 引言 | 第56页 |
| 4.2 实验内容 | 第56-60页 |
| 4.2.1 实验材料与设备 | 第56页 |
| 4.2.2 黏附力测试装置 | 第56-57页 |
| 4.2.3 法向黏附力测试装置 | 第57-58页 |
| 4.2.4 材料准备 | 第58-59页 |
| 4.2.5 黏附力测试 | 第59-60页 |
| 4.2.6 法向黏附力测试 | 第60页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第60-61页 |
| 4.4 本章小结 | 第61-63页 |
| 第五章 总结与展望 | 第63-65页 |
| 5.1 总结 | 第63页 |
| 5.2 创新点 | 第63页 |
| 5.3 展望 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第72页 |
