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镀镍工艺参数多元回归分析与镀层厚度预测研究

摘要第5-6页
ABSTRACT第6页
第一章 绪论第11-15页
    1.1 研究的背景和意义第11-12页
    1.2 镀镍发展史第12-13页
    1.3 国内外研究现状及趋势第13页
    1.4 课题来源第13-14页
    1.5 论文章节的安排第14-15页
第二章 电镀工艺及其影响因素第15-30页
    2.1 镀镍层性质第15页
    2.2 氨基磺酸镀镍工艺的优缺点第15页
    2.3 氨基磺酸镍电镀工艺的应用第15-16页
    2.4 氨基磺酸镀镍原理第16-20页
    2.5 工艺条件对电流效率的影响第20-22页
    2.6 连接器电镀工艺流程第22-23页
    2.7 电镀机简介第23-24页
    2.8 电镀层质量检验及设备第24-28页
    2.9 电镀参数研究常用仪器第28-30页
第三章 试验设计及多元回归方法第30-39页
    3.1 实验设计(Design of Experiment, 简称DOE)第30-31页
    3.2 正交试验在电镀工艺参数研究中的应用第31-32页
    3.3 多元回归方法第32-35页
    3.4 MINITAB 在电镀工艺参数研究中的应用第35-37页
    3.5 EXCEL 在多元线性回归中的应用第37-39页
第四章 参数优化在电镀效率与膜厚预测中的应用实例第39-57页
    4.1 背景说明第39页
    4.2 改善前的电镀质量状况第39-42页
    4.3.电镀工艺参数分布状况第42-43页
    4.4.影响阴极电流效率的工艺参数分析第43-44页
    4.5 试验试剂与仪器第44页
    4.6 试验步骤第44页
    4.7 单一工艺参数对电流效率的影响第44-48页
    4.8 双因素对电流效率的影响第48-50页
    4.9 生产中对膜厚控制预测第50-53页
    4.10 生产中参数控制第53-56页
    4.11 效益评估第56-57页
第五章 结论及展望第57-58页
    5.1 主要结论第57页
    5.2 后续主要工作第57-58页
参考文献第58-59页
致谢第59-60页
攻读硕士期间发表的学术论文第60页

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