摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5页 |
第一章 绪论 | 第8-12页 |
1.1 光纤通讯技术发展 | 第8-9页 |
1.2 氧化硅波导技术发展 | 第9-11页 |
1.3 平面光波导技术的应用与发展 | 第11页 |
1.4 本文主要研究内容及其目的 | 第11-12页 |
第二章 光波导理论分析 | 第12-21页 |
2.1 平板波导的波方程 | 第12-14页 |
2.2 矩形波导 | 第14-17页 |
2.2.1 矩形波导理论模型 | 第14-16页 |
2.2.2 矩形波导的导模分析 | 第16-17页 |
2.3 矩形波导耦合理论 | 第17-19页 |
2.3.1 耦合模方程 | 第17-18页 |
2.3.2 定向耦合器 | 第18-19页 |
2.4 热光开关原理 | 第19-21页 |
第三章 基于氧化硅光波导技术的应用与发展分析 | 第21-28页 |
3.1 氧化硅平面波导技术的特性分析与应用 | 第21-23页 |
3.1.1 技术与发展现状简介 | 第21页 |
3.1.2 氧化硅波导PLC器件的加工 | 第21-23页 |
3.2 氧化硅波导的高度集成大规模PLC技术器件的原理 | 第23-27页 |
3.2.1 N′N星状耦合器 | 第23-24页 |
3.2.2 N′N阵列波导光栅 (AWG) | 第24-25页 |
3.2.3 大规模矩阵光开关/交换器件 (Matrix Switches) | 第25-27页 |
3.3 对平面光波导技术产品在应用与发展中的特性分析 | 第27-28页 |
第四章 深刻槽转角镜的理论与实验研究 | 第28-38页 |
4.1 对波导转角镜研究的历史回顾 | 第28-30页 |
4.2 氧化硅波导直角转角镜的器件结构设计 | 第30-31页 |
4.3 1x3型WCM结构的设计与初步测试 | 第31-34页 |
4.3.1 器件的结构设计与加工 | 第31-33页 |
4.3.2 器件的光学转换效果的初步测试与分析 | 第33-34页 |
4.4 对输出模式和测试精度分析 | 第34-36页 |
4.4.1 对深槽侧壁表面位置误差分析 | 第34-36页 |
4.5 对芯片的端面抛光后进一步测试与分析: | 第36-38页 |
第五章 总结 | 第38-39页 |
5.1 本文重点研究内容 | 第38页 |
5.2 本文的创新点 | 第38-39页 |
致谢 | 第39-40页 |
参考文献 | 第40-41页 |