| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 多铁材料 | 第11-14页 |
| 1.2.1 铁磁性材料 | 第11-13页 |
| 1.2.2 铁电性材料 | 第13-14页 |
| 1.3 铁酸铋(BiFeO_3)晶体结构与性能 | 第14-15页 |
| 1.4 铁酸秘薄膜的研究目的及意义 | 第15-16页 |
| 1.5 铁酸铋材料性能改善 | 第16-17页 |
| 1.6 铁酸铋(BiFeO_3)薄膜的研究进展 | 第17-18页 |
| 1.7 铬酸铋材料的简介 | 第18-19页 |
| 第二章 实验方案及性能测试 | 第19-26页 |
| 2.1 实验原料及常用设备 | 第19-20页 |
| 2.2 实验过程 | 第20-26页 |
| 第三章 纯相BiFeO_3与Bi_(0.9)Ce_(0.1)FeO_3薄膜的结构与性能的研究 | 第26-38页 |
| 3.1 引言 | 第26页 |
| 3.2 物质量浓度0.2mol/L时不同退火温度对BiFeO_3薄膜结构及其性能的影响 | 第26-28页 |
| 3.3 纯相BiFeO_3与Bi_(0.9)Ce_(0.1)FeO_3薄膜的制备及其结构与性能的对比 | 第28-38页 |
| 3.3.1 纯相BiFeO_3与Bi_(0.9)Ce_(0.1)FeO_3薄膜的XRD结果对比 | 第28-29页 |
| 3.3.2 纯相BiFeO_3与Bi_(0.9)Ce_(0.1)FeO_3薄膜的SEM图片 | 第29-30页 |
| 3.3.3 纯相BiFeO_3与Bi_(0.9)Ce_(0.1)FeO_3薄膜的Raman图谱对比 | 第30-31页 |
| 3.3.4 纯相BiFeO_3与Bi_(0.9)Ce_(0.1)FeO_3薄膜的铁电性和漏电流对比 | 第31-32页 |
| 3.3.5 纯相BiFeO_3与Bi_(0.9)Ce_(0.1)FeO_3薄膜的XPS图谱对比 | 第32-34页 |
| 3.3.6 纯铁酸铋与掺铈铁酸铋薄膜漏电流机制的讨论 | 第34-37页 |
| 3.3.7 本章结论 | 第37-38页 |
| 第四章 掺10%Cr薄膜(BiCr_(0.1)Fe_(0.9)O_3)的结构及其性能的研究 | 第38-47页 |
| 4.1 引言 | 第38页 |
| 4.2 BiCr_(0.1)Fe_(0.9)O_3薄膜的XRD图谱 | 第38-39页 |
| 4.3 BiCr_(0.1)Fe_(0.9)O_3薄膜的SEM图片 | 第39-40页 |
| 4.4 BiCr_(0.1)Fe_(0.9)O_3薄膜的Raman图谱分析 | 第40-41页 |
| 4.5 BiCr_(0.1)Fe_(0.9)O_3薄膜的XPS图谱 | 第41-44页 |
| 4.6 BiCr_(0.1)Fe_(0.9)O_3薄膜的铁电性 | 第44-45页 |
| 4.7 BiCr_(0.1)Fe_(0.9)O_3薄膜的漏电流 | 第45-46页 |
| 4.8 本章结论 | 第46-47页 |
| 结论与展望 | 第47-49页 |
| 参考文献 | 第49-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文 | 第55页 |
