| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-23页 |
| 1.1 引言 | 第8页 |
| 1.2 二维材料的特性及制备方法 | 第8-12页 |
| 1.2.1 二维材料的性质概述 | 第8-9页 |
| 1.2.2 常见的二维材料的制备方法 | 第9-12页 |
| 1.3 二维纳米材料在气敏领域的研究进展 | 第12-18页 |
| 1.3.1 气敏传感器定义及分类 | 第12页 |
| 1.3.2 金属氧化物气敏的机理 | 第12-15页 |
| 1.3.3 气敏性能的评判参数 | 第15-16页 |
| 1.3.4 二维材料在气敏领域的研究现状 | 第16-18页 |
| 1.4 二维纳米材料在光电解水领域的研究进展 | 第18-21页 |
| 1.4.1 光电解水的机理 | 第18-19页 |
| 1.4.2 二维材料在光电解水领域的研究现状 | 第19-21页 |
| 1.5 课题的提出及创新之处 | 第21-23页 |
| 1.5.1 课题的提出 | 第21-22页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第22页 |
| 1.5.3 创新之处 | 第22-23页 |
| 第二章 实验原料与装置 | 第23-28页 |
| 2.1 实验原料 | 第23-24页 |
| 2.2 实验设备 | 第24-26页 |
| 2.2.1 真空管式炉 | 第24页 |
| 2.2.2 恒温磁力搅拌器 | 第24页 |
| 2.2.3 马弗炉 | 第24页 |
| 2.2.4 拉膜机 | 第24-25页 |
| 2.2.5 恒温真空干燥箱 | 第25页 |
| 2.2.6 氙灯 | 第25页 |
| 2.2.7 超声波清洗仪 | 第25页 |
| 2.2.8 电子天平 | 第25-26页 |
| 2.3 表征设备 | 第26-28页 |
| 2.3.1 场发射扫描电子显微镜（SEM） | 第26页 |
| 2.3.2 透射电子显微镜（TEM） | 第26页 |
| 2.3.3 X射线衍射(XRD) | 第26页 |
| 2.3.4 紫外-可见-近红外分光光度计 | 第26-27页 |
| 2.3.5 比表面积测试仪(BET) | 第27页 |
| 2.3.6 智能气敏分析仪 | 第27页 |
| 2.3.7 X射线光电子能谱测试仪(XPS) | 第27-28页 |
| 第三章 双层结构的气敏性能 | 第28-44页 |
| 3.1 引言 | 第28-29页 |
| 3.2 ZnO纳米棒阵列的制备 | 第29-30页 |
| 3.3 CdO纳米片阵列的制备 | 第30-31页 |
| 3.3.1 Cd纳米片阵列的制备 | 第30-31页 |
| 3.3.2 CdO纳米结构的制备 | 第31页 |
| 3.4 双层结构的制备 | 第31页 |
| 3.5 气敏器件的制备 | 第31-32页 |
| 3.6 器件结构对于CdO纳米片阵列气敏性能的影响 | 第32-38页 |
| 3.7 CdO微观结构对于气敏性能的影响 | 第38-43页 |
| 3.8 本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 CdO纳米片阵列的光电解水性能研究 | 第44-49页 |
| 4.1 引言 | 第44-45页 |
| 4.2 CdO纳米片阵列的光电产氢性能 | 第45-48页 |
| 4.3 本章小结 | 第48-49页 |
| 第五章 全文总结 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-58页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-61页 |