| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-16页 |
| 1.1 透明导电薄膜的研究意义 | 第9页 |
| 1.2 透明导电薄膜的研究现状 | 第9-14页 |
| 1.2.1 透明导电氧化物薄膜(TCO) | 第10-12页 |
| 1.2.2 金属透明导电薄膜 | 第12-13页 |
| 1.2.3 金属夹层透明导电薄膜 | 第13-14页 |
| 1.3 透明导电薄膜的应用 | 第14-15页 |
| 1.4 本文主要研究意义及研究内容 | 第15-16页 |
| 2 薄膜的制备和表征技术 | 第16-31页 |
| 2.1 磁控溅射技术简介 | 第16-19页 |
| 2.1.1 磁控溅射技术原理 | 第16-17页 |
| 2.1.2 磁控溅射技术的发展 | 第17-19页 |
| 2.2 本实验所用设备及工艺流程简介 | 第19-21页 |
| 2.2.1 磁控溅射设备 | 第19-20页 |
| 2.2.2 磁控溅射操作流程 | 第20-21页 |
| 2.3 透明导电薄膜常用的表征方法 | 第21-30页 |
| 2.3.1 薄膜厚度测试 | 第21-22页 |
| 2.3.2 金相显微镜 | 第22-23页 |
| 2.3.3 X射线衍射物相分析(XRD) | 第23-25页 |
| 2.3.4 霍尔测试仪 | 第25-27页 |
| 2.3.5 紫外可见分光光度计 | 第27-30页 |
| 2.4 本章小结 | 第30-31页 |
| 3 MgO/Mg/MgO透明导电薄膜的原理及表征分析 | 第31-40页 |
| 3.1 引言 | 第31页 |
| 3.2 MgO/Mg/MgO透明导电薄膜中多层结构的作用 | 第31-33页 |
| 3.3 MgO层的制备及其光电特性 | 第33-34页 |
| 3.4 金属Mg层的制备及其厚度的优化 | 第34-38页 |
| 3.5 MgO/Mg/MgO多层结构的制备及其光电特性 | 第38-39页 |
| 3.6 本章小结 | 第39-40页 |
| 4 热退火处理对MgO/Mg/MgO透明导电薄膜的光电特性影响 | 第40-44页 |
| 4.1 引言 | 第40页 |
| 4.2 退火温度对MgO/Mg/MgO透明导电薄膜表面形貌的影响 | 第40-41页 |
| 4.3 退火温度对MgO/Mg/MgO透明导电薄膜表面形貌的影响 | 第41-42页 |
| 4.4 退火温度对MgO/Mg/MgO透明导电薄膜电学特性的影响 | 第42-43页 |
| 4.5 本章小结 | 第43-44页 |
| 结论 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-49页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
