| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 金刚石的结构 | 第11-12页 |
| 1.3 金刚石的性能及应用 | 第12-13页 |
| 1.4 CVD金刚石膜的沉积方法和沉积机理 | 第13-19页 |
| 1.4.1 CVD金刚石膜的沉积方法 | 第13-15页 |
| 1.4.2 CVD金刚石膜的沉积机理 | 第15-19页 |
| 1.5 CO_2-CH_4反应体系制备CVD金刚石膜的研究进展 | 第19-21页 |
| 1.6 论文研究的意义和内容 | 第21-23页 |
| 第2章 实验材料和设备及金刚石膜的表征方法 | 第23-29页 |
| 2.1 实验材料和设备 | 第23-26页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第23页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第23-26页 |
| 2.2 金刚石薄膜生长的工艺流程 | 第26-27页 |
| 2.3 金刚石膜的表征方法 | 第27-29页 |
| 2.3.1 激光拉曼光谱 | 第27页 |
| 2.3.2 X射线衍射法 | 第27页 |
| 2.3.3 扫描电子显微镜 | 第27-29页 |
| 第3章 CO_2/CH_4流量比对金刚石膜生长的影响 | 第29-37页 |
| 3.1 引言 | 第29页 |
| 3.2 CO_2/CH_4流量比对金刚石膜表面形貌的影响 | 第29-31页 |
| 3.3 CO_2/CH_4流量比对金刚石膜沉积速率的影响 | 第31-33页 |
| 3.4 CO_2/CH_4流量比对金刚石膜结晶质量的影响 | 第33-35页 |
| 3.5 CO_2/CH_4流量比对金刚石膜结晶取向的影响 | 第35-36页 |
| 3.6 本章小结 | 第36-37页 |
| 第4章 微波功率对金刚石膜生长的影响 | 第37-43页 |
| 4.1 引言 | 第37页 |
| 4.2 微波功率对金刚石膜表面形貌的影响 | 第37-39页 |
| 4.3 微波功率对金刚石膜结晶质量的影响 | 第39-41页 |
| 4.4 微波功率对金刚石膜结晶取向的影响 | 第41页 |
| 4.5 本章小结 | 第41-43页 |
| 第5章 沉积气压对金刚石膜生长的影响 | 第43-49页 |
| 5.1 引言 | 第43页 |
| 5.2 沉积气压对金刚石膜表面形貌的影响 | 第43-45页 |
| 5.3 沉积气压对金刚石膜结晶质量的影响 | 第45-46页 |
| 5.4 沉积气压对金刚石膜结晶取向的影响 | 第46-47页 |
| 5.5 本章小结 | 第47-49页 |
| 第6章 N_2浓度对金刚石膜生长的影响 | 第49-55页 |
| 6.1 引言 | 第49-50页 |
| 6.2 N_2浓度对金刚石膜表面形貌的影响 | 第50-51页 |
| 6.3 N_2浓度对金刚石膜结晶质量的影响 | 第51-52页 |
| 6.4 N_2浓度对金刚石膜生长速率的影响 | 第52-54页 |
| 6.5 本章小结 | 第54-55页 |
| 第7章 全文总结与展望 | 第55-57页 |
| 7.1 全文总结 | 第55-56页 |
| 7.2 论文展望 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-65页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
