| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 课题来源及研究的目的及意义 | 第9-10页 |
| 1.2 国内外低温红外温差源的研究现状及近况分析 | 第10-16页 |
| 1.2.1 国外低温红外温差源的研究现状 | 第11-13页 |
| 1.2.2 国内低温红外模拟源的研究现状 | 第13-15页 |
| 1.2.3 国内外文献简析 | 第15-16页 |
| 1.3 研究内容与方案 | 第16-18页 |
| 第2章 低温红外温差源的基础理论与总体设计方案 | 第18-40页 |
| 2.1 引言 | 第18页 |
| 2.2 低温红外温差源的基本理论概述 | 第18-31页 |
| 2.2.1 低温热传导的基本理论 | 第19-23页 |
| 2.2.2 低温热对流的基本理论 | 第23-24页 |
| 2.2.3 有限元法的基本理论 | 第24-26页 |
| 2.2.4 低温热辐射的基本理论 | 第26-28页 |
| 2.2.5 低温辐射传热的基本原理 | 第28-31页 |
| 2.3 低温红外温差源的总体设计方案 | 第31-32页 |
| 2.4 低温红外温差源的关键技术设计及原理分析 | 第32-39页 |
| 2.4.1 低温红外温差源的关键技术 | 第32-35页 |
| 2.4.2 低温红外温差源与传统低温红外目标源的区别 | 第35-36页 |
| 2.4.3 温差源的基本原理 | 第36-39页 |
| 2.5 本章小结 | 第39-40页 |
| 第3章 低温红外温差源温度传导与恒温结构的设计 | 第40-62页 |
| 3.1 引言 | 第40页 |
| 3.2 低温黑体目标与黑体背景设计和ANSYS分析 | 第40-54页 |
| 3.2.1 黑体背景与黑体目标的结构设计与温度场分析概述 | 第41-42页 |
| 3.2.2 圆筒式黑体背景与温度场分析 | 第42-44页 |
| 3.2.3 空腔式黑体背景与温度场分析 | 第44-46页 |
| 3.2.4 蛇形管式黑体背景与温度场分析 | 第46-47页 |
| 3.2.5 蛇形槽黑体背景与温度场分析 | 第47-49页 |
| 3.2.6 黑体目标ANSYS分析结果 | 第49-52页 |
| 3.2.7 液氮罐体积的确定 | 第52-54页 |
| 3.3 温控系统与控制系统设计 | 第54-60页 |
| 3.3.1 黑体目标的加热功率计算 | 第54-55页 |
| 3.3.2 黑体目标加热过程分析 | 第55-56页 |
| 3.3.3 加热片及热敏电阻设计 | 第56-58页 |
| 3.3.4 PLC温控系统设计 | 第58-60页 |
| 3.4 本章小结 | 第60-62页 |
| 第4章 准直系统设计与杂散光影响分析 | 第62-73页 |
| 4.1 引言 | 第62页 |
| 4.2 准直系统设计 | 第62-68页 |
| 4.2.1 准直系统基于Zemax的光学结构设计 | 第62-63页 |
| 4.2.2 准直系统结构尺寸的计算 | 第63-65页 |
| 4.2.3 准直系统结构参数计算结果分析 | 第65-68页 |
| 4.3 杂散光分析 | 第68-72页 |
| 4.3.1 杂散光的来源 | 第68页 |
| 4.3.2 蒙特卡洛计算方法 | 第68-69页 |
| 4.3.3 系统理论辐通量的计算 | 第69-70页 |
| 4.3.4 杂散光仿真与影响分析 | 第70-72页 |
| 4.4 本章小结 | 第72-73页 |
| 结论 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-78页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文及科研成果 | 第78-80页 |
| 致谢 | 第80页 |
