| 摘要 | 第2-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 1 引言 | 第8-16页 |
| 1.1 射频感性放电等离子体的研究背景和意义 | 第8-11页 |
| 1.1.1 低温等离子体简介 | 第8-9页 |
| 1.1.2 低温等离子体在集成电路制造工艺的应用 | 第9-10页 |
| 1.1.3 射频感性耦合等离子体源工作原理 | 第10-11页 |
| 1.2 等离子体模拟商业软件简介 | 第11-13页 |
| 1.2.1 COMSOL简介 | 第11-12页 |
| 1.2.2 有限元方法简介 | 第12-13页 |
| 1.3 射频感性放电等离子体耦合背景气体的研究意义和现状 | 第13-15页 |
| 1.4 本文的研究内容和结构安排 | 第15-16页 |
| 2 射频感性放电等离子体耦合背景气体的二维流体模拟理论模型 | 第16-23页 |
| 2.1 等离子体模型（含初始和边界条件） | 第17-20页 |
| 2.2 背景气体流体模型 | 第20-21页 |
| 2.3 等离子体模型耦合背景气体模型的实现 | 第21-23页 |
| 3 耦合背景气体输运机制对等离子体模拟结果的影响 | 第23-45页 |
| 3.1 背景气体速度场对等离子体模拟结果的影响 | 第23-32页 |
| 3.1.0 背景气体速度场、压力场 | 第23-24页 |
| 3.1.1 亚稳态氩原子数密度、通量 | 第24-31页 |
| 3.1.3 电子特征量 | 第31页 |
| 3.1.4 小结 | 第31-32页 |
| 3.2 耦合背景气体速度场、压力场对等离子体模拟结果的影响 | 第32-45页 |
| 3.2.1 Ars对流通量、数密度 | 第32-34页 |
| 3.2.2 激发反应 | 第34-36页 |
| 3.2.3 多步电离反应 | 第36-38页 |
| 3.2.4 平移线圈时影响 | 第38-44页 |
| 3.2.5 小结 | 第44-45页 |
| 4 结论与展望 | 第45-47页 |
| 4.1 本文主要结论 | 第45-46页 |
| 4.2 展望 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-50页 |
| 附录A 反应截面 | 第50-57页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-60页 |
