| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-13页 |
| ·表面涂层的研究背景 | 第8-9页 |
| ·TiN及复合涂层的研究 | 第9-10页 |
| ·TiN涂层的研究 | 第9页 |
| ·TiN复合涂层的研究进展 | 第9-10页 |
| ·TiN/AlN薄膜的性能 | 第10-12页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第12-13页 |
| 第2章 薄膜的制备与检测 | 第13-23页 |
| ·薄膜的制备原理与镀膜设备 | 第13-17页 |
| ·溅射镀膜原理 | 第13-16页 |
| ·溅射镀膜设备 | 第16-17页 |
| ·薄膜的检测 | 第17-23页 |
| ·试验材料及技术路线 | 第17-18页 |
| ·薄膜的结构与性能分析 | 第18-23页 |
| 第3章 工艺参数对TiN薄膜的影响 | 第23-38页 |
| ·溅射气压对TiN薄膜结构与性能的影响 | 第23-28页 |
| ·溅射气压对TiN薄膜结晶取向的影响 | 第23-25页 |
| ·溅射气压对TiN薄膜沉积速率的影响 | 第25-26页 |
| ·溅射气压对TiN薄膜表面形貌的影响 | 第26-28页 |
| ·基底温度对TiN薄膜结构与性能的影响 | 第28-32页 |
| ·基底温度对TiN薄膜结晶取向的影响 | 第28-29页 |
| ·基底温度对TiN薄膜沉积速率的影响 | 第29-30页 |
| ·基底温度对TiN薄膜表面形貌的影响 | 第30-32页 |
| ·溅射电流对TiN薄膜结构与性能的影响 | 第32-38页 |
| ·溅射电流对TiN薄膜结晶取向的影响 | 第33-34页 |
| ·溅射电流对TiN薄膜沉积速率的影响 | 第34-35页 |
| ·溅射电流对TiN薄膜表面形貌的影响 | 第35-38页 |
| 第4章 AlN薄膜沉积及性能分析 | 第38-44页 |
| ·溅射气压对AlN薄膜的结构的影响 | 第38-40页 |
| ·AlN薄膜的沉积速率和表面粗糙度与溅射气压的关系 | 第40-41页 |
| ·AlN薄膜的光学性能 | 第41-44页 |
| 第5章 TiN/AlN双层薄膜的制备及性能研究 | 第44-56页 |
| ·TiN/AIN双层薄膜的结构与表面形貌研究 | 第44-47页 |
| ·不同基底温度对沉积TiN/AlN双层膜结晶取向的影响 | 第44-45页 |
| ·不同基底温度对沉积TiN/AlN双层膜表面形貌的影响 | 第45-47页 |
| ·TiN/AlN双层膜性能研究 | 第47-56页 |
| ·TiN/AlN双层膜的结构分析 | 第47-48页 |
| ·TiN/AlN双层膜的光学性能分析 | 第48-49页 |
| ·TiN/AlN双层膜的耐腐性分析 | 第49-51页 |
| ·TiN/AlN双层膜的抗氧化性能分析 | 第51-56页 |
| 第6章 结论 | 第56-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第64页 |
