| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 1 绪论 | 第12-26页 |
| 1.1 铜的应用及腐蚀问题概述 | 第12-13页 |
| 1.1.1 铜的腐蚀研究现状 | 第12-13页 |
| 1.2 铜的腐蚀防护研究 | 第13-15页 |
| 1.2.1 缓蚀剂的缓蚀机理 | 第13-14页 |
| 1.2.2 缓蚀剂技术研究进展 | 第14-15页 |
| 1.3 自组装缓蚀膜技术研究进展 | 第15-17页 |
| 1.3.1 缓蚀自组装的进展 | 第15-17页 |
| 1.3.2 自组装膜形成的影响因素 | 第17页 |
| 1.4 点击化学反应及其在科学研究中的应用 | 第17-19页 |
| 1.4.1 点击化学定义和研究进展 | 第17-18页 |
| 1.4.2 点击化学在腐蚀领域的应用 | 第18-19页 |
| 1.5 可控组装 | 第19页 |
| 1.6 论文选题意义与研究内容 | 第19-21页 |
| 1.6.1 选题意义 | 第19-20页 |
| 1.6.2 研究内容 | 第20-21页 |
| 参考文献 | 第21-26页 |
| 2 炔醇和叠氮化合物在铜表面的缓蚀组装研究 | 第26-51页 |
| 2.1 前言 | 第26-27页 |
| 2.2 实验部分 | 第27-28页 |
| 2.2.1 实验材料和药品 | 第27页 |
| 2.2.2 自组装方法 | 第27页 |
| 2.2.3 电化学测试 | 第27-28页 |
| 2.2.4 量子化学计算 | 第28页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第28-48页 |
| 2.3.1 组装浓度对TA自组装膜保护性能的影响 | 第28-32页 |
| 2.3.2 组装浓度对BTO自组装膜保护性能的影响 | 第32-35页 |
| 2.3.3 组装时间对BTO自组装膜作用性能的影响 | 第35-38页 |
| 2.3.4 组装浓度对MBY自组装膜保护性能的影响 | 第38-41页 |
| 2.3.5 组装时间对MBY自组装膜保护性能的影响 | 第41-44页 |
| 2.3.6 量子化学计算及分子动力学模拟 | 第44-48页 |
| 2.4 结论 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-51页 |
| 3 铜表面点击组装的缓蚀性能研究 | 第51-76页 |
| 3.1 前言 | 第51-52页 |
| 3.2 实验部分 | 第52-53页 |
| 3.2.1 实验材料和药品 | 第52页 |
| 3.2.2 点击组装方法 | 第52页 |
| 3.2.3 电化学测试 | 第52页 |
| 3.2.4 AFM测试 | 第52-53页 |
| 3.2.5 红外光谱测试 | 第53页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第53-73页 |
| 3.3.1 点击组装膜的红外光谱表征 | 第53-54页 |
| 3.3.2 两步点击组装研究 | 第54-64页 |
| 3.3.3 一步点击组装研究 | 第64-72页 |
| 3.3.4 不同点击组装方式的点击组装模型 | 第72-73页 |
| 3.4 结论 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-76页 |
| 4 环境因素对点击组装膜形成的影响 | 第76-90页 |
| 4.1 前言 | 第76页 |
| 4.2 实验部分 | 第76-77页 |
| 4.2.1 实验材料和药品 | 第76页 |
| 4.2.2 点击组装方法 | 第76-77页 |
| 4.2.3 电化学测试 | 第77页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第77-87页 |
| 4.3.1 组装溶液中NaCl的影响 | 第77-81页 |
| 4.3.2 外加一价铜离子的影响 | 第81-85页 |
| 4.3.3 环境影响因素下的铜表面AFM微观形貌分析 | 第85-86页 |
| 4.3.4 不同环境影响因素的点击组装模型 | 第86-87页 |
| 4.4 结论 | 第87-89页 |
| 参考文献 | 第89-90页 |
| 5 合成三氮唑在铜表面的缓蚀组装研究 | 第90-106页 |
| 5.1 前言 | 第90页 |
| 5.2 实验部分 | 第90-91页 |
| 5.2.1 实验材料和药品 | 第90-91页 |
| 5.2.2 三氮唑的有机合成 | 第91页 |
| 5.2.3 电化学测试 | 第91页 |
| 5.2.4 红外光谱测试 | 第91页 |
| 5.2.5 量子化学计算和分子动力学模拟 | 第91页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第91-103页 |
| 5.3.1 合成三氮唑的红外表征 | 第91-92页 |
| 5.3.2 TTE的自组装膜缓蚀效果研究 | 第92-95页 |
| 5.3.3 TTP的自组装膜缓蚀效果研究 | 第95-97页 |
| 5.3.4 两种三氮唑自组装铜表面AFM微观形貌分析 | 第97-98页 |
| 5.3.5 两种三氮唑的量子化学计算和分子动力学模拟 | 第98-101页 |
| 5.3.6 两种三氮唑分子对铜的缓蚀机理模型 | 第101-103页 |
| 5.4 结论 | 第103-105页 |
| 参考文献 | 第105-106页 |
| 6 结论与展望 | 第106-108页 |
| 6.1 结论 | 第106-107页 |
| 6.2 展望 | 第107-108页 |
| 致谢 | 第108-110页 |
| 作者在攻读硕士学位期间发表的论文及获得荣誉 | 第110-112页 |
| 作者在攻读硕士学位期间所做的项目 | 第112页 |
