LCD中液晶取向工艺条件的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-15页 |
| ·引论 | 第9-10页 |
| ·液晶光开关原理 | 第10-11页 |
| ·液晶器件工艺 | 第11-13页 |
| ·液晶取向的意义 | 第13页 |
| ·本文的主要工作及创新点 | 第13-15页 |
| 第二章 液晶取向技术 | 第15-23页 |
| ·摩擦取向技术 | 第15-17页 |
| ·摩擦取向技术工艺 | 第15-16页 |
| ·摩擦取向层材料的选择 | 第16页 |
| ·摩擦取向的理论分析 | 第16-17页 |
| ·非摩擦取向技术 | 第17-22页 |
| ·光控取向技术 | 第18-19页 |
| ·倾斜蒸镀法 | 第19-20页 |
| ·LB膜技术 | 第20-22页 |
| ·本章小结 | 第22-23页 |
| 第三章 晶体旋转法测量预倾角 | 第23-31页 |
| ·液晶预倾角 | 第23-24页 |
| ·向列相液晶分子预倾角 | 第23-24页 |
| ·预倾角的作用 | 第24页 |
| ·晶体旋转法原理 | 第24-30页 |
| ·相位差的产生 | 第25-26页 |
| ·相位差函数 | 第26-29页 |
| ·预倾角的推导 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第四章 构建液晶预倾角测量系统 | 第31-43页 |
| ·光学平台 | 第32-36页 |
| ·激光光源的选择 | 第32-35页 |
| ·光学转台的选择 | 第35-36页 |
| ·光电转换电路 | 第36-41页 |
| ·光电转换器 | 第36-39页 |
| ·电流-电压转换放大电路 | 第39-41页 |
| ·数据采集子系统 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第五章 液晶薄盒的制作 | 第43-60页 |
| ·基板的处理 | 第43-45页 |
| ·基板的清洗 | 第43-45页 |
| ·UV改性处理 | 第45页 |
| ·取向工艺 | 第45-51页 |
| ·取向剂的制备 | 第46页 |
| ·取向层的涂覆 | 第46-48页 |
| ·取向层的预处理 | 第48-49页 |
| ·取向层的固化 | 第49-50页 |
| ·取向层的摩擦处理 | 第50-51页 |
| ·制盒工艺 | 第51-59页 |
| ·空盒制作 | 第51-56页 |
| ·基板裂片 | 第56-57页 |
| ·灌晶及封口 | 第57-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第六章 实验结果及讨论 | 第60-74页 |
| ·预倾角的测量 | 第60-64页 |
| ·测量准备 | 第60-61页 |
| ·测量过程 | 第61-62页 |
| ·数据处理 | 第62-64页 |
| ·摩擦强度对预倾角的影响 | 第64-68页 |
| ·摩擦次数对预倾角的影响 | 第68-70页 |
| ·取向层的稳定性 | 第70-71页 |
| ·取向层的均匀性 | 第71-72页 |
| ·本章小结 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-79页 |
| 硕士研究生期间发表论文情况 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80页 |
