| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-23页 |
| ·薄膜研究进展 | 第10-11页 |
| ·TiO_2薄膜的结构 | 第11-13页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第13-15页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第13-14页 |
| ·液相沉积法 | 第14页 |
| ·化学气相沉积 | 第14页 |
| ·物理气相沉积法 | 第14-15页 |
| ·TiO_2薄膜的应用 | 第15-18页 |
| ·TiO_2在光解水制氢方面的应用 | 第15-16页 |
| ·TiO_2在光催化降解污染物方面的应用 | 第16-17页 |
| ·TiO_2在染料敏化太阳能电池方面的应用 | 第17-18页 |
| ·净化空气 | 第18页 |
| ·自清洁防雾 | 第18页 |
| ·TiO_2薄膜的制备工艺及稀磁半导体 | 第18-23页 |
| ·溅射工艺对TiO_2薄膜结构的影响 | 第18-19页 |
| ·稀磁半导体薄膜的研究进展 | 第19-23页 |
| 第2章 TiO_2薄膜的制备及测试 | 第23-30页 |
| ·引言 | 第23-26页 |
| ·磁控溅射设备的原理 | 第23-24页 |
| ·磁控溅射设备的特点 | 第24-25页 |
| ·基片的清洗 | 第25-26页 |
| ·样品的测试 | 第26-30页 |
| ·X-射线衍射仪(XRD) | 第26-27页 |
| ·振动样品磁强计(VSM) | 第27-28页 |
| ·扫描探针显微镜(SPM) | 第28-30页 |
| 第3章 工艺参数对TiO_2薄膜结构的影响 | 第30-43页 |
| ·制备过程中氧气量对TiO_2薄膜结构及结晶的影响 | 第31-33页 |
| ·样品的制备过程 | 第31页 |
| ·不同氧分压对薄膜结晶的影响 | 第31-32页 |
| ·空气中退火处理对TiO_2薄膜结晶的影响 | 第32-33页 |
| ·基底温度对TiO_2薄膜结晶及结构的影响 | 第33-37页 |
| ·样品的制备过程 | 第33页 |
| ·不同基底温度对TiO_2薄膜结构的影响 | 第33-36页 |
| ·不同退火氛围对TiO_2薄膜结晶的影响 | 第36-37页 |
| ·掺杂对TiO_2薄膜结晶及结构的影响 | 第37-42页 |
| ·样品的制备过程 | 第37-38页 |
| ·退火氛围对TiO_2薄膜样品晶体结构的影响 | 第38-39页 |
| ·Fe掺杂量的不同对TiO_2薄膜晶体结构的影响 | 第39-40页 |
| ·Fe-TiO_2薄膜的EDS图谱 | 第40页 |
| ·Fe-TiO_2薄膜的形貌 | 第40-41页 |
| ·Co掺杂量的不同对TiO_2薄膜晶体结构的影响 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第4章 稀磁半导体薄膜的磁性表征 | 第43-52页 |
| ·磁性修正方法 | 第43-45页 |
| ·引言 | 第43页 |
| ·传统的磁性修正方法 | 第43-44页 |
| ·改进的磁性修正方法 | 第44-45页 |
| ·Fe掺杂TiO_2薄膜的结构与磁性研究 | 第45-50页 |
| ·引言 | 第45页 |
| ·Fe掺杂TiO_2薄膜的组分测定 | 第45-47页 |
| ·Fe掺杂TiO_2薄膜的磁性能 | 第47-49页 |
| ·Co掺杂TiO_2薄膜的磁性能 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-52页 |
| 结论 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第61页 |