| 学位论文数据集 | 第3-4页 |
| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第15-31页 |
| 1.1 ITO透明导电薄膜的研究 | 第15-17页 |
| 1.1.1 ITO薄膜导电机理 | 第15页 |
| 1.1.2 ITO薄膜性能及应用 | 第15-16页 |
| 1.1.3 ITO薄膜的制备方法 | 第16-17页 |
| 1.2 ITO纳米粉体概述 | 第17-22页 |
| 1.2.1 ITO纳米粉体制备方法 | 第17-18页 |
| 1.2.2 ITO粉体制备中影响因素的研究 | 第18-22页 |
| 1.3 ITO靶材概述 | 第22-28页 |
| 1.3.1 ITO靶材研究现状 | 第22-23页 |
| 1.3.2 ITO粉体造粒工艺 | 第23-24页 |
| 1.3.3 ITO素坯成型工艺 | 第24-25页 |
| 1.3.4 ITO靶材制备方法 | 第25-27页 |
| 1.3.5 ITO靶材发展趋势 | 第27-28页 |
| 1.4 课题的研究目的、意义及主要内容 | 第28-31页 |
| 1.4.1 课题的研究目的及意义 | 第28页 |
| 1.4.2 课题研究的主要内容 | 第28-31页 |
| 第二章 实验部分 | 第31-39页 |
| 2.1 实验所用试剂及设备 | 第31-33页 |
| 2.2 ITO靶材制备过程 | 第33-36页 |
| 2.2.1 ITO粉体的制备 | 第33-34页 |
| 2.2.2 ITO粉体的造粒 | 第34-35页 |
| 2.2.3 造粒粉的成型 | 第35页 |
| 2.2.4 ITO素坯低温脱脂 | 第35页 |
| 2.2.5 ITO素坯的常压烧结 | 第35-36页 |
| 2.3 性能测试 | 第36-39页 |
| 2.3.1 TEM分析 | 第36-37页 |
| 2.3.2 SEM分析 | 第37页 |
| 2.3.3 物相分析 | 第37页 |
| 2.3.4 密度测定 | 第37页 |
| 2.3.5 电阻率测定 | 第37-39页 |
| 第三章 ITO粉体的制备及影响因素的研究 | 第39-51页 |
| 3.1 引言 | 第39页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第39-49页 |
| 3.2.1 前驱体及粉体XRD分析 | 第39-41页 |
| 3.2.2 ITO粉体的分散性分析 | 第41-42页 |
| 3.2.3 团聚系数分析 | 第42-43页 |
| 3.2.4 不同缓冲溶液对ITO粉体形貌的影响 | 第43-45页 |
| 3.2.5 不同缓冲溶液对ITO粉体电阻率的影响 | 第45-46页 |
| 3.2.6 不同温度及pH值下粉体的形貌 | 第46-47页 |
| 3.2.7 ITO粉体的XPS分析 | 第47-49页 |
| 3.3 本章小结 | 第49-51页 |
| 第四章 ITO靶材烧结工艺研究 | 第51-75页 |
| 4.1 ITO素坯成型及脱脂过程 | 第51-53页 |
| 4.1.1 ITO粉体造粒 | 第51-52页 |
| 4.1.2 素坯成型 | 第52页 |
| 4.1.3 素坯低温脱脂过程 | 第52-53页 |
| 4.2 ITO靶材烧结过程不同工艺参数的研究 | 第53-72页 |
| 4.2.1 不同温烧结温度下ITO靶材的物相结构 | 第53-54页 |
| 4.2.2 不同烧结温度下靶材的致密化行为 | 第54-57页 |
| 4.2.3 不同升温速率下靶材的致密化行为 | 第57-60页 |
| 4.2.4 不同保温时间下靶材的致密化行为 | 第60-64页 |
| 4.2.5 喷雾造粒工艺下靶材的致密化行为 | 第64-67页 |
| 4.2.6 不同脱脂工艺下靶材的致密化行为 | 第67-68页 |
| 4.2.7 掺杂不同烧结助剂条件下靶材的致密化行为 | 第68-72页 |
| 4.3 本章小结 | 第72-75页 |
| 第五章 结论与展望 | 第75-77页 |
| 5.1 结论 | 第75-76页 |
| 5.2 展望 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-83页 |
| 致谢 | 第83-85页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第85-87页 |
| 作者和导师简介 | 第87-88页 |
| 附件 | 第88-89页 |