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切向VUV高速成像诊断系统的数据处理研究

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第一章 绪论第12-28页
    1.1 引言第12-13页
    1.2 磁约束聚变装置第13-18页
        1.2.1 托卡马克装置简介第13-16页
        1.2.2 仿星器装置简介第16-18页
    1.3 磁流体不稳定性第18-19页
    1.4 研究不稳定性的常用诊断系统第19-22页
    1.5 VUV成像系统研究现状第22-26页
    1.6 论文研究内容第26-27页
        1.6.1 论文主要研究内容第26-27页
        1.6.2 论文内容安排第27页
    1.7 本章小结第27-28页
第二章 数据分析方法第28-44页
    2.1 引言第28页
    2.2 图像数据预处理分析第28-31页
        2.2.1. 奇异值分解第28-30页
        2.2.2. 快速傅里叶变换第30-31页
    2.3 图像重建算法第31-43页
        2.3.1 投影第32-34页
        2.3.2 几何矩阵计算方法第34-39页
        2.3.3 图像合成第39-41页
        2.3.4 反投影第41-43页
    2.4 本章小结第43-44页
第三章 EAST上VUV成像系统现状第44-59页
    3.1 引言第44页
    3.2 VUV成像系统结构设计第44-55页
        3.2.1 光学系统第45-51页
        3.2.2 MCP探测器第51-54页
        3.2.3 高速CMOS相机第54-55页
    3.3 VUV光子数估算第55-57页
    3.4 VUV成像系统预期成果及效益第57-58页
    3.5 本章小结第58-59页
第四章 成像质量分析第59-81页
    4.1 引言第59页
    4.2 像差分析第59-64页
        4.2.1 球差第60-61页
        4.2.2 彗差第61-62页
        4.2.3 像散和像面弯曲第62-63页
        4.2.4 畸变第63-64页
    4.3 成像质量分析第64-74页
        4.3.1 点列图第66-68页
        4.3.2 光学传递函数第68-71页
        4.3.3 能量集中度第71-73页
        4.3.4 光线像差第73页
        4.3.5 细光束场区与畸变第73-74页
    4.4 光学系统公差分析第74-79页
        4.4.1 制造误差第74-75页
        4.4.2 装配误差第75-77页
        4.4.3 系统装配公差的分配及结果第77-79页
    4.5 实际成像效果第79页
    4.6 本章小结第79-81页
第五章 VUV成像系统的实际应用第81-98页
    5.1 引言第81页
    5.2 撕裂模成像的实验研究第81-87页
        5.2.1 撕裂模不稳定性第81-82页
        5.2.2 (m/n=2/1)扰动模的观察第82-83页
        5.2.3 (m/n=2/1)扰动模的二维结构第83-87页
    5.3 交换模成像的实验研究第87-91页
    5.4 边界局域模的实验研究第91-94页
        5.4.1 高约束模式和边界局域模的介绍第91-92页
        5.4.2 ELMs成像的实验研究第92-94页
    5.5 破裂成像的实验研究第94-97页
        5.5.1 等离子体破裂事件第94-95页
        5.5.2 破裂成像的实验研究第95-97页
    5.6 本章小结第97-98页
第六章 总结与展望第98-102页
    6.1 总结第98-100页
        6.1.1 光学系统第98-99页
        6.1.2 数据处理研究第99页
        6.1.3 物理实验研究第99-100页
    6.2 本文创新点第100页
    6.3 展望第100-102页
参考文献第102-109页
致谢第109-111页
在读期间发表的学术论文目录第111页

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