| 中文摘要 | 第4-5页 |
| 英文摘要 | 第5-6页 |
| 引言 | 第9-16页 |
| 1.1 粒子物理学及探测器介绍 | 第9-10页 |
| 1.1.1 粒子物理学介绍 | 第9页 |
| 1.1.2 径迹探测器 | 第9-10页 |
| 1.1.3 硅像素探测器 | 第10页 |
| 1.2 BESⅢ结构简介 | 第10-11页 |
| 1.3 离线软件系统及校准方法介绍 | 第11-14页 |
| 1.3.1 事例重建流程 | 第13页 |
| 1.3.2 MDC径迹重建效率介绍 | 第13-14页 |
| 1.4 论文结构设计 | 第14-16页 |
| 2 MDC的内室升级备选方案介绍 | 第16-20页 |
| 2.1 新丝室方案 | 第16-17页 |
| 2.2 圆筒GEM（CGEM）方案 | 第17-18页 |
| 2.3 硅像素径迹室方案 | 第18-20页 |
| 3 BESⅢ漂移室内室升级中SPT校准方法的模拟研究 | 第20-42页 |
| 3.1 径迹探测器校准的必要性 | 第20页 |
| 3.2 SPT的几何结构 | 第20-21页 |
| 3.3 漂移室外室几何结构 | 第21-22页 |
| 3.4 基于SPT内室的BESⅢ几何结构的空间坐标设定 | 第22-23页 |
| 3.5 模拟数据产生流程 | 第23-25页 |
| 3.6 明确内室击中点的方法介绍 | 第25-27页 |
| 3.7 明确外室击中位置的方法介绍 | 第27-28页 |
| 3.8 径迹拟合 | 第28-31页 |
| 3.8.1 Minuit拟合介绍 | 第28-30页 |
| 3.8.2 离线软件实现螺旋线拟合算法流程 | 第30-31页 |
| 3.9 校准方法介绍 | 第31-37页 |
| 3.9.1 校准参数 | 第31-33页 |
| 3.9.2 校准方法 | 第33-35页 |
| 3.9.3 校准参数的选取 | 第35页 |
| 3.9.4 校准方法在以硅像素径迹室为漂移室内室的BESⅢ探测器几何结构的背景下的理论实现过程及原理 | 第35页 |
| 3.9.5 校准方法的离线软件实现 | 第35页 |
| 3.9.6 离线软件校准流程 | 第35-37页 |
| 3.10 残差法模拟研究结果 | 第37-42页 |
| 3.10.1 残差法校准结果——以ladder作为最小探测单元 | 第38-40页 |
| 3.10.2 以芯片为独立变量的残差法校准结果 | 第40-42页 |
| 4 研究DT_pKpi正负proton产额不对称性之重建部分的原因 | 第42-51页 |
| 4.1 DT_pKpi正负质子产额不对称 | 第42-44页 |
| 4.1.1 事例显示器 | 第42-43页 |
| 4.1.2 DT_pKpi正负质子产额不对称现象 | 第43-44页 |
| 4.2 研究正负proton的重建效率 | 第44-51页 |
| 4.2.1 研究方法 | 第44页 |
| 4.2.2 实现过程 | 第44-45页 |
| 4.2.3 统计结果 | 第45-51页 |
| 总结 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 在学期间公开发表论文及著作情况 | 第55页 |
