| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-11页 |
| 第2章 文献综述 | 第11-21页 |
| ·YAG晶体概述 | 第11-13页 |
| ·研究背景 | 第11页 |
| ·YAG晶体的基本结构和性能 | 第11-13页 |
| ·YAG晶体的生长方法 | 第13-16页 |
| ·提拉法 | 第13-14页 |
| ·温度梯度法 | 第14-15页 |
| ·微下拉法 | 第15-16页 |
| ·几种掺杂YAG晶体的光学特性 | 第16-19页 |
| ·Ce：YAG晶体 | 第16-17页 |
| ·Yb：YAG晶体 | 第17页 |
| ·Tm：YAG晶体 | 第17-18页 |
| ·Pr：YAG晶体 | 第18页 |
| ·Gd,Ce：YAG晶体 | 第18页 |
| ·Ce：(Gd,Y)_3(Al,Ga)_5O_(12)晶体 | 第18-19页 |
| ·课题的提出 | 第19-21页 |
| ·YAG的优势 | 第19页 |
| ·YAG目前存在的问题 | 第19-20页 |
| ·本论文的研究内容及意义 | 第20-21页 |
| 第3章 下降法生长Ce：YAG晶体 | 第21-31页 |
| ·坩埚下降法 | 第21-23页 |
| ·结晶炉 | 第22页 |
| ·支撑和下降机构 | 第22页 |
| ·测控温系统 | 第22-23页 |
| ·坩埚的制备 | 第23页 |
| ·坩埚下降法的优点 | 第23页 |
| ·Ce：YAG晶体生长 | 第23-25页 |
| ·Ce：YAG晶体性能表征 | 第25-30页 |
| ·Ce：YAG晶体的XRD图谱 | 第25-26页 |
| ·Ce：YAG晶体的吸收光谱 | 第26-27页 |
| ·Ce：YAG晶体的激发和发射光谱 | 第27-29页 |
| ·晶体的光电性能 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第4章 稀土掺杂YAG纳米粉体的制备和性能研究 | 第31-43页 |
| ·Sol-Gel方法制备掺杂YAG粉体 | 第31页 |
| ·Dy~(3+)：YAG纳米粉体的性能表征 | 第31-36页 |
| ·Dy~(3+)：YAG纳米粉体的XRD | 第31-32页 |
| ·Dy~(3+)：YAG纳米粉体的TEM | 第32-33页 |
| ·Dy~(3+)：YAG纳米粉体的荧光光谱 | 第33-35页 |
| ·Dy~(3+)：YAG纳米粉体的衰减曲线 | 第35-36页 |
| ·Dy~(3+),Eu~(3+)：YAG纳米粉体的性能表征 | 第36-42页 |
| ·Dy~(3+),Eu~(3+)：YAG纳米粉体的XRD | 第36-37页 |
| ·Dy~(3+),Eu~(3+)：YAG纳米粉体的TEM | 第37页 |
| ·Dy~(3+),Eu~(3+)：YAG纳米粉体的荧光光谱分析 | 第37-42页 |
| ·Dy~(3+),Eu~(3+)：YAG纳米粉体的衰减曲线 | 第42页 |
| ·小结 | 第42-43页 |
| 第5章 光学浮区法生长稀土掺杂YAG晶体 | 第43-59页 |
| ·光学浮区法 | 第43-45页 |
| ·光学浮区法生长设备 | 第43-44页 |
| ·光学浮区法工作原理 | 第44-45页 |
| ·掺杂YAG-LuAG晶体的生长 | 第45-51页 |
| ·原料制备 | 第45-46页 |
| ·原料棒制备 | 第46-47页 |
| ·光学浮区法生长Ce,Pr：YLuAG和Ce,Tm：YLuAG晶体 | 第47页 |
| ·晶体生长过程中的影响因素 | 第47-48页 |
| ·工艺参数的选择 | 第48-49页 |
| ·晶体质量 | 第49-51页 |
| ·掺杂YAG-LuAG晶体的发光性能 | 第51-58页 |
| ·Ce,Pr：YLuAG和Ce,Tm：YLuAG晶体的透过光谱 | 第51-52页 |
| ·Ce,Pr：YLuAG晶体的激发和发射光谱 | 第52-54页 |
| ·Ce,Tm：YLuAG晶体的激发和发射光谱 | 第54-55页 |
| ·Ce,Pr：YLuAG和Ce,Tm：YLuAG晶体的X射线激发光谱 | 第55-57页 |
| ·Ce,Pr：YluAG和Ce,Tm：YLuAG晶体的色坐标 | 第57-58页 |
| ·Ce,Pr：YLuAG晶体的荧光寿命 | 第58页 |
| ·小结 | 第58-59页 |
| 第6章 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 攻读学位期间所开展的科研项目和发表的学术论文 | 第67页 |
