| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-15页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·Al_2O_3:C晶体辐射剂量材料的研究背景 | 第9-12页 |
| ·Al_2O_3:C晶体热释光剂量计的研究与发展 | 第9-10页 |
| ·Al_2O_3:C晶体光释光、辐射发光剂量计的研究与发展 | 第10-11页 |
| ·Al_2O_3:C晶体辐射剂量材料的制备方法 | 第11-12页 |
| ·纳米掺碳氧化铝薄膜辐射剂量材料的研究与发展 | 第12-13页 |
| ·纳米掺碳氧化铝薄膜的研究与发展 | 第12-13页 |
| ·纳米掺碳氧化铝薄膜剂量材料的研究背景 | 第13页 |
| ·本论文的研究内容和目的 | 第13-15页 |
| ·本论文的研究内容 | 第13-14页 |
| ·本课题的研究目的及意义 | 第14-15页 |
| 第二章 纳米掺碳氧化铝薄膜的制备及表征 | 第15-26页 |
| ·纳米掺碳氧化铝薄膜的制备 | 第15-18页 |
| ·实验材料与仪器设备 | 第15-17页 |
| ·制备流程及后期处理 | 第17-18页 |
| ·纳米掺碳氧化铝薄膜基本性质的表征 | 第18-26页 |
| ·样品的表面形貌 | 第18-21页 |
| ·样品成分分析 | 第21-23页 |
| ·样品的光致发光 | 第23-24页 |
| ·样品热释光与光释光测试 | 第24-26页 |
| 第三章 纳米掺碳氧化铝薄膜发光机理的研究 | 第26-33页 |
| ·薄膜中缺陷的形成机理 | 第26-27页 |
| ·掺碳氧化铝薄膜PL机理的研究 | 第27-33页 |
| ·薄膜PL特性高斯拟合研究 | 第27-29页 |
| ·不同浓度草酸溶液中制备的薄膜的PL研究 | 第29-33页 |
| 第四章 薄膜热释光、光释光、辐射发光特性研究 | 第33-52页 |
| ·纳米掺碳氧化铝薄膜热释光特性与剂量响应 | 第34-41页 |
| ·材料热释光理论模型 | 第34-36页 |
| ·薄膜热释光特性 | 第36-40页 |
| ·薄膜热释光剂量响应曲线 | 第40-41页 |
| ·纳米掺碳氧化铝薄膜光释光特性与剂量响应 | 第41-44页 |
| ·材料光释光理论模型 | 第41-42页 |
| ·薄膜光释光特性 | 第42-44页 |
| ·光释光剂量响应曲线 | 第44页 |
| ·辐射发光理论模拟 | 第44-52页 |
| ·辐射发光的理论模型 | 第44-46页 |
| ·辐射发光的数值模拟 | 第46-52页 |
| 第五章 结论与展望 | 第52-55页 |
| ·结论 | 第52-53页 |
| ·研究总结 | 第52-53页 |
| ·研究创新点 | 第53页 |
| ·展望 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-60页 |
| 硕士期间发表论文清单 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |