磁控溅射法制备Fe-Si-Al电磁屏蔽薄膜的性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-23页 |
| ·电磁污染与防护 | 第11-13页 |
| ·电磁污染 | 第11-12页 |
| ·电磁污染的防护 | 第12-13页 |
| ·吸波材料的原理及分类 | 第13-16页 |
| ·吸波材料的原理 | 第13-14页 |
| ·吸波材料的分类 | 第14-16页 |
| ·Fe-Si-Al合金研究进展 | 第16-19页 |
| ·Fe-Si-AL合金性能特点 | 第16页 |
| ·合金成分对吸波性能的影响 | 第16-17页 |
| ·Fe-Si-Al吸波薄膜的研究进展 | 第17-18页 |
| ·制备Fe-Si-Al吸波材料的传统方法 | 第18-19页 |
| ·磁控溅射法 | 第19-21页 |
| ·课题研究的意义、目的及主要内容 | 第21-23页 |
| 第2章 实验方法 | 第23-29页 |
| ·实验流程 | 第23-26页 |
| ·实验材料与设备 | 第23-25页 |
| ·样品的准备 | 第25-26页 |
| ·样品分析方法 | 第26-29页 |
| ·物相结构分析 | 第26页 |
| ·表面微观形貌分析 | 第26页 |
| ·成分分析 | 第26-27页 |
| ·膜厚测试 | 第27页 |
| ·电阻率测试 | 第27页 |
| ·磁导率测试 | 第27-28页 |
| ·磁滞回线测试 | 第28页 |
| ·结合力测试 | 第28-29页 |
| 第3章 溅射阴极与靶材的设计 | 第29-40页 |
| ·溅射阴极设计 | 第29-30页 |
| ·靶材结构设计 | 第30-31页 |
| ·靶材成分设计 | 第31-39页 |
| ·Fe靶加Si-Al二元靶 | 第33-36页 |
| ·Fe-Si-Al三元合金靶 | 第36-38页 |
| ·优化三元靶材成分 | 第38-39页 |
| 本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 Fe-Si-Al薄膜的工艺设计 | 第40-50页 |
| ·气体流量 | 第40-42页 |
| ·溅射电压 | 第42-44页 |
| ·衬底温度 | 第44-48页 |
| ·沉积时间 | 第48-49页 |
| 本章小结 | 第49-50页 |
| 第5章 Fe-Si-Al薄膜性能研究 | 第50-61页 |
| ·成分对微观形貌、结构性能的影响 | 第50-53页 |
| ·成分对电阻率的影响 | 第53-54页 |
| ·成分对磁导率的影响 | 第54-57页 |
| ·磁导率实部 | 第54-56页 |
| ·磁导率虚部 | 第56-57页 |
| ·成分对界面结合力的影响 | 第57页 |
| ·静态磁性能 | 第57-59页 |
| 本章小结 | 第59-61页 |
| 第6章 结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
