共结晶法AND吸湿改性探究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-27页 |
| ·共晶及超分子概念与发展 | 第9-10页 |
| ·晶体工程概论 | 第10-14页 |
| ·晶体工程基础 | 第10-12页 |
| ·晶体工程策略 | 第12-14页 |
| ·ADN 与 HNIW 简介 | 第14-21页 |
| ·ADN 概况 | 第14-15页 |
| ·ADN 合成路线 | 第15-16页 |
| ·ADN 吸湿性原理及改性研究进展 | 第16-18页 |
| ·HNIW | 第18-21页 |
| ·含能材料共晶发展现状 | 第21-22页 |
| ·共晶对含能材料性能影响的机理研究 | 第22-24页 |
| ·论文选题意义及主要内容设计 | 第24-27页 |
| 2 共晶模拟计算 | 第27-47页 |
| ·Materials Studio 软件介绍 | 第27-28页 |
| ·表面静电势能计算 | 第28-32页 |
| ·表面静电势能介绍 | 第28-31页 |
| ·ADN、CL-20 表面静电势能计算 | 第31-32页 |
| ·共晶结构模拟计算 | 第32-46页 |
| ·CL-20/ADN 共晶模拟计算 | 第32-37页 |
| ·最可几共晶结构吸湿动力学模拟计算 | 第37-45页 |
| ·晶体形貌模拟计算 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 3 ADN 的合成与表征 | 第47-53页 |
| ·试剂与仪器 | 第47页 |
| ·ADN合成及纯化 | 第47-52页 |
| ·KDN合成 | 第47-49页 |
| ·ADN合成 | 第49-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 4 共晶制备与表征 | 第53-58页 |
| ·共晶制备方法 | 第53页 |
| ·共晶表征方法 | 第53-57页 |
| ·粉末X射线衍射（PXRD） | 第54-55页 |
| ·DSC测试 | 第55-56页 |
| ·拉曼光谱 | 第56页 |
| ·红外光谱 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 5 CL-20/ADN 共晶性能 | 第58-64页 |
| ·共晶的热性能 | 第58-60页 |
| ·共晶的吸湿和溶解性变化 | 第60-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 6 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-72页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
