| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-16页 |
| ·纳米薄膜材料简介 | 第9-10页 |
| ·薄膜生长研究的介绍 | 第10-12页 |
| ·低能沉积薄膜的分子动力学模拟研究现状 | 第12-15页 |
| ·本文的组织结构 | 第15页 |
| ·本文的研究目的及主要工作 | 第15-16页 |
| 第2章 分子动力学模拟方法的介绍 | 第16-25页 |
| ·引言 | 第16页 |
| ·分子动力学模拟的基本思想 | 第16-17页 |
| ·分子动力学的基本算法 | 第17-18页 |
| ·经典分子动力学的近似处理 | 第18页 |
| ·基体模型的近似处理 | 第18-19页 |
| ·分子动力学的系综 | 第19页 |
| ·原子间相互作用势介绍 | 第19-21页 |
| ·对势 | 第20页 |
| ·多体势及 EAM 原子间相互作用势 | 第20-21页 |
| ·分子动力学计算流程 | 第21-22页 |
| ·分子动力学模拟软件介绍 | 第22-25页 |
| 第3章 Au/Au(111)薄膜生长的分子动力学模拟 | 第25-40页 |
| ·引言 | 第25页 |
| ·物理模型和计算方法 | 第25-26页 |
| ·模拟结果与讨论 | 第26-35页 |
| ·原子结构图的分析 | 第26-29页 |
| ·入射能量对粗糙度和层覆盖率的影响 | 第29-31页 |
| ·入射能量对薄膜质量影响的物理机制 | 第31-35页 |
| ·薄膜生长过程的分析 | 第35-38页 |
| ·本章小结 | 第38-40页 |
| 第4章 Cu/Si(001)薄膜生长的分子动力学模拟 | 第40-59页 |
| ·引言 | 第40页 |
| ·物理模型的构建 | 第40-42页 |
| ·多体势函数的选取 | 第40-41页 |
| ·Si 基体模型的构建 | 第41-42页 |
| ·沉积过程 | 第42-44页 |
| ·沉积过程的模拟结果及分析 | 第44-57页 |
| ·对薄膜的生长过程的影响 | 第44-50页 |
| ·入射能量对薄膜表面粗糙度及覆盖率的影响 | 第50-52页 |
| ·入射能量对薄膜生长的影响 | 第52-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 第5章 全文总结及展望 | 第59-62页 |
| ·本文主要研究工作 | 第59-60页 |
| ·本文主要创新点 | 第60页 |
| ·本课题存在的问题及今后研究的设想 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-67页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和参加科研情况说明 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |