| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-27页 |
| ·前言 | 第10-11页 |
| ·电致变色材料的种类 | 第11-12页 |
| ·WO_3薄膜的电致变色机制 | 第12-15页 |
| ·色心模型 | 第12页 |
| ·双注入模型 | 第12-14页 |
| ·极化模型 | 第14页 |
| ·Bechinger模型 | 第14-15页 |
| ·配位场模型 | 第15页 |
| ·WO_3电致变色薄膜的应用 | 第15-19页 |
| ·电致变色器件的结构及原理 | 第15-16页 |
| ·电致变色器件的应用及研究现状 | 第16-19页 |
| ·WO_3薄膜的制备技术 | 第19-23页 |
| ·真空蒸发沉积 | 第20页 |
| ·化学气相沉积 | 第20页 |
| ·溅射沉积 | 第20-21页 |
| ·溶胶-凝胶技术 | 第21-23页 |
| ·Sol-gel 制备电致变色 WO_3薄膜的研究进展 | 第23-26页 |
| ·掺杂改性研究 | 第23-24页 |
| ·模板法纳米孔结构薄膜研究 | 第24-25页 |
| ·溶胶成膜方式研究 | 第25-26页 |
| ·本课题的研究目的和内容 | 第26-27页 |
| 第二章 实验方法 | 第27-34页 |
| ·实验材料及仪器设备 | 第27页 |
| ·薄膜的制备 | 第27-30页 |
| ·基底的前处理 | 第28页 |
| ·溶胶的配制 | 第28页 |
| ·溶胶成膜 | 第28-30页 |
| ·样品的烘干和热处理 | 第30页 |
| ·WO_3薄膜的性能表征 | 第30-34页 |
| ·薄膜形貌观察和结构测定 | 第30页 |
| ·WO_3凝胶的 DSC-TG 测试 | 第30-31页 |
| ·薄膜光学性能的测试 | 第31-32页 |
| ·薄膜的电化学性能测试 | 第32-34页 |
| 第三章 不同溶胶成膜方法制备电致变色 WO_3薄膜的研究 | 第34-56页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·基础溶胶的配制 | 第34-39页 |
| ·基础溶胶配制的正交实验设计 | 第34-35页 |
| ·配制基础溶胶的正交实验结果 | 第35-39页 |
| ·浸渍提拉法制备 WO_3薄膜 | 第39-42页 |
| ·浸渍提拉工艺的正交实验设计 | 第39-40页 |
| ·浸渍提拉工艺的正交实验结果及分析 | 第40-42页 |
| ·脉冲电泳沉积法制备 WO_3薄膜 | 第42-47页 |
| ·脉冲电泳沉积工艺的正交实验设计 | 第42-43页 |
| ·脉冲电泳沉积工艺的正交实验结果与分析 | 第43-47页 |
| ·不同溶胶成膜方法制备 WO_3薄膜的性能对比 | 第47-54页 |
| ·薄膜相结构对比 | 第47-48页 |
| ·薄膜形貌对比 | 第48-49页 |
| ·薄膜的光学性能对比 | 第49-51页 |
| ·薄膜的电化学性能对比 | 第51-54页 |
| ·成膜工艺影响 WO_3薄膜性质的机理探讨 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第四章 添加草酸制备电致变色 WO_3薄膜及其性能研究 | 第56-71页 |
| ·引言 | 第56页 |
| ·薄膜的制备 | 第56-57页 |
| ·结果与讨论 | 第57-70页 |
| ·添加草酸对溶胶稳定性的影响 | 第57页 |
| ·添加草酸对 WO_3薄膜光学性能的影响 | 第57-59页 |
| ·添加草酸对 WO_3薄膜电化学性能的影响 | 第59-61页 |
| ·凝胶的热重分析 | 第61-62页 |
| ·热处理温度对 WO_3薄膜光学性能的影响 | 第62-64页 |
| ·热处理温度对薄膜电化学性能的影响 | 第64-67页 |
| ·薄膜的XRD分析 | 第67-69页 |
| ·薄膜的SEM分析 | 第69-70页 |
| ·本章小结 | 第70-71页 |
| 结论 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 个人简历 | 第80-81页 |
| 在校期间已发表和录用的论文 | 第81页 |
