高频InP基耿氏二极管的工艺研究

摘要	第1-4页
Abstract	第4-6页
第一章 绪论	第6-14页
·课题背景	第6-7页
·在国际上太赫兹发展现状以及国内的现状和趋势	第7-9页
·国内太赫兹术发展现状及趋势	第9-12页
·课题研究的目的与意义	第12页
·本论文的选题结构	第12-14页
第二章 耿氏二极管的研究机理	第14-24页
·耿氏器件的研究背景	第14页
·耿氏效应的理论	第14-17页
·耿氏二极管的机理分析	第17-20页
·耿氏器件的载流子的输运和频率特性	第20-21页
·耿氏器件的物理结构与理论特性	第21-22页
·本章小结	第22-24页
第三章 耿氏二极管的工艺研究	第24-32页
·磷化铟材料的制备	第24-25页
·器件的制作技术	第25页
·主要的工艺步骤	第25-27页
·材料的结构设计	第27-28页
·实验流程	第28-32页
第四章 耿氏二极管的在片测试结构和测试结果	第32-36页
·测试结构的图形	第32-33页
·对实验结果进行分析和总结	第33-36页
第五章 总结与展望	第36-38页
·总结	第36-37页
·展望	第37-38页
参考文献	第38-42页
致谢	第42-44页
个人简介	第44页