| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 文献综述 | 第9-25页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·高温涂层概述 | 第10-12页 |
| ·高温防护涂层的分类 | 第10-11页 |
| ·高温涂层抗氧化性能的主要影响因素 | 第11页 |
| ·高温合金和高温涂层的设计 | 第11-12页 |
| ·高温涂层的性能要求及限制 | 第12-13页 |
| ·涂层的性能要求 | 第12-13页 |
| ·涂层性能的限制因素 | 第13页 |
| ·涂层高温氧化动力学 | 第13-15页 |
| ·静态氧化动力学 | 第13-15页 |
| ·循环氧化动力学 | 第15页 |
| ·钛合金及其高温防护 | 第15-19页 |
| ·钛及钛合金 | 第15-17页 |
| ·高温钛合金的氧化行为 | 第17-18页 |
| ·高温钛合金防护涂层 | 第18-19页 |
| ·多弧离子镀涂层 | 第19-23页 |
| ·真空镀膜技术及分类 | 第19-21页 |
| ·多弧离子镀的沉积原理 | 第21-22页 |
| ·多弧离子镀的类型和技术特点 | 第22页 |
| ·多弧离子镀的基本工艺 | 第22-23页 |
| ·多弧离子镀的应用 | 第23页 |
| ·本课题研究的目的及意义 | 第23-25页 |
| 第二章 实验方法 | 第25-30页 |
| ·试验过程 | 第25页 |
| ·基材准备 | 第25-26页 |
| ·涂层成分设计 | 第26-27页 |
| ·靶材制备 | 第27页 |
| ·真空沉积 | 第27页 |
| ·真空热处理 | 第27-28页 |
| ·氧化实验 | 第28-29页 |
| ·检测分析 | 第29-30页 |
| 第三章 离子镀NiCoCrAlTaY涂层真空热处理的研究 | 第30-51页 |
| ·沉积态NiCoCrAlTaY涂层的显微结构 | 第30-31页 |
| ·真空热处理对NiCoCrAlTaY涂层相组成的影响 | 第31-35页 |
| ·沉积态NiCoCrAlTaY涂层的相组成 | 第31-32页 |
| ·真空热处理温度对NiCoCrAlTaY涂层的相组成的影响 | 第32-33页 |
| ·真空热处理时间对NiCoCrAlTaY涂层的相组成的影响 | 第33-34页 |
| ·NiCoCrAlTaY涂层的相组成变化的相图分析 | 第34-35页 |
| ·真空热处理对NiCoCrAlTaY涂层显微组织的影响 | 第35-38页 |
| ·真空热处理温度对NiCoCrAlTaY涂层显微组织的影响 | 第35-37页 |
| ·真空热处理时间对NiCoCrAlTaY涂层显微组织的影响 | 第37-38页 |
| ·NiCoCrAlTaY涂层/基体界面反应机制 | 第38-42页 |
| ·真空热处理状态下涂层的失效机制分析 | 第42-44页 |
| ·真空热处理过程中NiCoCrAlTaY涂层/基体界面元素的扩散行为 | 第44-48页 |
| ·NiCoCrAlTaY涂层真空热处理对钛合金基体显微组织的影响 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章 离子镀NiCoCrAlTaY涂层抗氧化性能的研究 | 第51-63页 |
| ·NiCoCrAlTaY涂层氧化宏观形貌 | 第51-52页 |
| ·NiCoCrAlTaY涂层氧化动力学分析 | 第52-56页 |
| ·NiCoCrAlTaY涂层的氧化-增重曲线 | 第52-54页 |
| ·NiCoCrAlTaY涂层的氧化激活能 | 第54-56页 |
| ·NiCoCrAlTaY涂层氧化产物分析 | 第56-58页 |
| ·NiCoCrAlTaY涂层氧化后的显微组织形貌 | 第58-61页 |
| ·本章小结 | 第61-63页 |
| 第五章 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 攻读学位期间主要的研究成果目录 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69页 |
