| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 1 绪论 | 第10-16页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·ZnO的研究背景及现状 | 第10-13页 |
| ·ZnO薄膜中的缺陷与掺杂 | 第13-15页 |
| ·本征ZnO薄膜中的缺陷 | 第13-14页 |
| ·ZnO的掺杂 | 第14-15页 |
| ·论文的主要研究内容 | 第15-16页 |
| 2 ZnO薄膜的基本性质、制备技术和性能表征方法 | 第16-26页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第16-18页 |
| ·ZnO薄膜的制备技术 | 第18-21页 |
| ·磁控溅射技术 | 第18-19页 |
| ·分子束外延技术 | 第19页 |
| ·化学气相沉积技术 | 第19页 |
| ·激光脉冲沉积技术 | 第19-20页 |
| ·喷雾热分解法 | 第20页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第20页 |
| ·水热法 | 第20-21页 |
| ·ZnO薄膜的性能表征方法 | 第21-25页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第21-22页 |
| ·X射线衍射 | 第22-23页 |
| ·紫外-可见-近红外分光光度计 | 第23-24页 |
| ·光致发光谱 | 第24-25页 |
| ·小结 | 第25-26页 |
| 3 磁控溅射时间对ZnO薄膜的结构和光学性质的影响 | 第26-31页 |
| ·磁控溅射制备ZnO薄膜 | 第26页 |
| ·ZnO薄膜性能分析 | 第26-30页 |
| ·微结构 | 第26-28页 |
| ·光学性质 | 第28-30页 |
| ·总结 | 第30-31页 |
| 4 两步法制备ZnO：N薄膜的微结构和光学性质的研究 | 第31-43页 |
| ·六次甲基四胺浓度对制备的ZnO：N薄膜微结构和光学性质的影响 | 第31-37页 |
| ·实验 | 第31页 |
| ·ZnO：N薄膜的微结构和光学性质 | 第31-37页 |
| ·微结构 | 第31-34页 |
| ·光学性质 | 第34-37页 |
| ·水热反应时间对制备的ZnO：N薄膜微观结构与光学性质影响 | 第37-41页 |
| ·实验 | 第37页 |
| ·ZnO:N薄膜的微观结构与光学性质 | 第37-41页 |
| ·微结构 | 第37-40页 |
| ·光学性质 | 第40-41页 |
| ·结论 | 第41-43页 |
| 5 两步法制备ZnO：P薄膜的微结构和光学性质的研究 | 第43-57页 |
| ·磷酸二氢铵浓度对制备的ZnO:P薄膜的影响 | 第43-49页 |
| ·实验 | 第43页 |
| ·ZnO:P薄膜微结构和光学性质表征 | 第43-49页 |
| ·微结构 | 第43-47页 |
| ·光学性质 | 第47-49页 |
| ·水热反应时间对制备ZnO:P薄膜微结构和光学性质的影响 | 第49-56页 |
| ·实验 | 第49-50页 |
| ·ZnO:P薄膜的微结构及光学性质表征 | 第50-56页 |
| ·微结构 | 第50-52页 |
| ·光学性质 | 第52-56页 |
| ·结论 | 第56-57页 |
| 6 总结 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-64页 |
| 个人简历及硕士期间发表的论文 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
