表面温度场的分布对酸制绒多晶硅表面结构的影响
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| ·多晶硅表面处理的意义 | 第10页 |
| ·多晶硅太阳电池的应用 | 第10-12页 |
| ·光伏建筑一体化应用 | 第10-11页 |
| ·空间应用 | 第11页 |
| ·光热一体化 | 第11-12页 |
| ·其他应用 | 第12页 |
| ·多晶硅太阳能电池的绒面技术 | 第12-17页 |
| ·机械刻槽 | 第12-13页 |
| ·激光刻蚀 | 第13-14页 |
| ·反应离子刻蚀（RIE） | 第14-15页 |
| ·化学腐蚀 | 第15-16页 |
| ·当前多晶硅制绒技术的主要问题 | 第16-17页 |
| ·本文内容及研究意义 | 第17-19页 |
| 第二章 晶硅太阳能电池工作原理和制作工艺 | 第19-28页 |
| ·晶硅太阳能电池工作原理 | 第19-23页 |
| ·光生伏打效应 | 第19页 |
| ·晶硅太阳能电池的结构及工作原理 | 第19-21页 |
| ·太阳能电池主要参数 | 第21-23页 |
| ·晶硅太阳能电池制作工艺 | 第23-27页 |
| ·表面处理 | 第24页 |
| ·扩散制结 | 第24-25页 |
| ·去边去背结 | 第25页 |
| ·沉积减反射膜 | 第25-26页 |
| ·印刷电极和烧结 | 第26-27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 第三章 多晶硅酸腐蚀制绒研究 | 第28-35页 |
| ·硅片在酸溶液中的腐蚀机理 | 第28-29页 |
| ·各种因素对腐蚀反应的影响 | 第29-34页 |
| ·硅片表面因素 | 第29页 |
| ·腐蚀液配比 | 第29-33页 |
| ·添加剂 | 第33页 |
| ·温度 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第四章 温度场分布对腐蚀坑微观形貌的影响 | 第35-44页 |
| ·反应过程中腐蚀坑周围的温度场分布 | 第35-40页 |
| ·不同温度场分布对反应速率差的影响 | 第40-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第五章 实验对模拟结果的验证 | 第44-54页 |
| ·腐蚀反应过程中不控制溶液温度 | 第44-45页 |
| ·腐蚀反应过程中控制溶液温度 | 第45-52页 |
| ·溶液配比 HNO3:HF=1:5 时 | 第45-47页 |
| ·溶液配比 HNO3:HF=1:6 时 | 第47-49页 |
| ·溶液配比 HNO3:HF=1:10 时 | 第49-52页 |
| ·不同温度条件多晶硅制绒反射率比较 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第六章 结论与展望 | 第54-55页 |
| ·结论 | 第54页 |
| ·展望 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 攻读硕士学位期间发表或录用的论文 | 第61页 |
